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更新时间:2026-06-22
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HORIBA STEC(堀场流体事业部)是全球半导体 MFC 龙头厂商,半导体制程市占率超 60%,核心优势为压电阀热式质量流量控制,覆盖高纯气体、腐蚀性气体、液体微小流量全场景,苏州半导体 / 光伏 / 面板产线广泛配套。
核心结构:镜面抛光全金属流路、压电陶瓷控制阀(无发热、响应极速)
精度:10~100% FS ±0.5% 设定点;低量程 0.5~10% FS ±0.05% 满量程
响应速度:全量程 T98<1s,可变 PID 自适应大小流量
流量区间:0.1 SCCM ~ 50 SLM(N₂当量)
通讯:EtherCAT、DeviceNet、RS485 (F-NET)、SECS-II、模拟 0-5V/4-20mA
特色:多气体 / 多量程一键切换、内置自诊断、寿命预警、金属密封兼容 Cl₂、WF₆等腐蚀气体
接口:标准 1/4" VCR 金属密封,适配洁净室超高纯管路
流量范围:10 SCCM ~ 1000 SLM,大小量程全覆盖
精度:±1.0% 设定点,响应≤1s
通讯齐全:EtherCAT、Profibus、CC-Link、DeviceNet、模拟信号
优势:性价比高,国产产线标配,维护成本低于 Z500 系列
原理:电容差压传感,无加热丝,杜绝热敏丝污染、分解前驱体
耐受压力:最高 450kPaA,高压工艺适配
精度:±1% 设定点,极低温度漂移
适配:MOCVD、金属有机源、高温前驱体输送
LF 系列:高压型,最大耐压 10MPa,微小液体 0.01~100g/min,适配半导体光刻化学品、冷却液
LV 系列:低压通用型,耐压 1MPa,低沸点 / 高粘度药液精密控流,流路超洁净无析出
集成电路晶圆(主力市场)
刻蚀、薄膜沉积 PVD/CVD/ALD、离子注入、扩散、清洗高纯气体控制;
光伏 / 面板
电池片扩散、PECVD、LCD/OLED 镀膜;
科研实验室
MOCVD、管式炉、气相合成、催化实验;
医疗 / 分析仪器
气相色谱、细胞培养、气体混合配比;
氢能 / 汽车测试
HyFQ 系列氢燃料流量计,发动机排放测试台配套。