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HORIBA流量计适用于哪些行业-半导体介绍

更新时间:2026-06-22点击次数:32

HORIBA STEC(堀场流体事业部)是全球半导体 MFC 龙头厂商,半导体制程市占率超 60%,核心优势为压电阀热式质量流量控制,覆盖高纯气体、腐蚀性气体、液体微小流量全场景,苏州半导体 / 光伏 / 面板产线广泛配套。HORIBA流量计适用于哪些行业-半导体<a class=

定位:刻蚀、ALD/CVD、扩散超高纯 / 腐蚀性特种气体,晶圆前道核心型号
  • 核心结构:镜面抛光全金属流路、压电陶瓷控制阀(无发热、响应极速)

  • 精度:10~100% FS ±0.5% 设定点;低量程 0.5~10% FS ±0.05% 满量程

  • 响应速度:全量程 T98<1s,可变 PID 自适应大小流量

  • 流量区间:0.1 SCCM ~ 50 SLM(N₂当量)

  • 通讯:EtherCAT、DeviceNet、RS485 (F-NET)、SECS-II、模拟 0-5V/4-20mA

  • 特色:多气体 / 多量程一键切换、内置自诊断、寿命预警、金属密封兼容 Cl₂、WF₆等腐蚀气体

  • 接口:标准 1/4" VCR 金属密封,适配洁净室超高纯管路

  • 定位:非芯片制程、光伏 PECVD、镀膜、普通工艺惰性气体(N₂/Ar/O₂)
    • 流量范围:10 SCCM ~ 1000 SLM,大小量程全覆盖

    • 精度:±1.0% 设定点,响应≤1s

    • 通讯齐全:EtherCAT、Profibus、CC-Link、DeviceNet、模拟信号

    • 优势:性价比高,国产产线标配,维护成本低于 Z500 系列

  • 3. D700MG 差压式无热 MFC(高压 / 高温、易分解气体专用)

    • 原理:电容差压传感,无加热丝,杜绝热敏丝污染、分解前驱体

    • 耐受压力:最高 450kPaA,高压工艺适配

    • 精度:±1% 设定点,极低温度漂移

    • 适配:MOCVD、金属有机源、高温前驱体输送

  • 4. S600 中日合制经济型(国内量产,中低端光伏 / 科研)

  • 日本核心技术、国内堀场工厂组装,成本更低,基础模拟 / RS485 通讯,流量 10SCCM~100SLM,橡胶密封为主,不用于先进晶圆腐蚀气体场景。
  • 5. SEC-8000F/D 高温烘烤型

  • 全金属耐高温结构,阀体 / 传感器耐 150℃烘烤,适配 MOCVD、高温腐蚀气体工艺。
  • 二、液体流量控制器系列(LF/LV 微小液体)

    • LF 系列:高压型,最大耐压 10MPa,微小液体 0.01~100g/min,适配半导体光刻化学品、冷却液

    • LV 系列:低压通用型,耐压 1MPa,低沸点 / 高粘度药液精密控流,流路超洁净无析出

    • 集成电路晶圆(主力市场)

      刻蚀、薄膜沉积 PVD/CVD/ALD、离子注入、扩散、清洗高纯气体控制;

    • 光伏 / 面板

      电池片扩散、PECVD、LCD/OLED 镀膜;

    • 科研实验室

      MOCVD、管式炉、气相合成、催化实验;

    • 医疗 / 分析仪器

      气相色谱、细胞培养、气体混合配比;

    • 氢能 / 汽车测试

      HyFQ 系列氢燃料流量计,发动机排放测试台配套。


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