Japan- MIKASA（米卡萨）AD‑1200 旋转式显影机特点

日本 MIKASA（米卡萨）AD‑1200 设备定位：实验室 / 小批量研发用单片旋转显影机，适配硅片、玻璃、化合物半导体，常搭配 MIKASA 接触式光刻机、旋涂机使用；支持水坑显影 (Puddle)+ 摆动喷淋显影 (Spray) 两种主流显影模式。

1、双工艺模式：水坑显影 + 摆动喷淋显影

• Puddle 水坑显影：基板低速旋转，药液静置覆盖基板表面，适合高精度、薄胶、亚微米图形，显影均匀性好。

• Swing‑nozzle 摆动喷淋显影：喷嘴横向往复扫描喷淋，溶解反应产物被持续冲走，适合厚光刻胶、大图形、容易残渣堆积的工艺。

同一台设备两种工艺自由切换，研发打样适配性。

2、完整一体化工艺流程

标准三路液路：显影液、正面冲洗、背面冲洗；一台设备自动完成：给药显影→正反面冲洗→高速旋干整套工序，无需人工转移基板，减少颗粒污染与人为工艺偏差。可扩展最多 3 组显影液系统，可切换不同配方显影液。

3、转速与程序控制精度高

• 转速：0‑3000rpm 连续可调，伺服旋台，启停抖动小，薄硅片、薄玻璃不易碎裂翘曲。

• 程序：96 步工艺程序，支持程序复制、步骤跳过；可存储 10 组完整配方；触屏 LCD 操作，工艺参数可固化，不同人员操作工艺可复现，适合研发多配方对比实验。

4、耐腐蚀腔体，洁净适配黄光实验室

• 腔室湿部全部不锈钢材质，耐受 TMAH 碱性显影液、部分有机溶剂；腔体内部光滑，减少药液结晶、颗粒残留；废液导流设计，无反流二次污染基板。

• 台式紧凑型，整机重量约 33kg，可直接放置在洁净台内，不占大厂房空间，高校、研发实验室非常常用。

5、多重安全联锁保护

• 真空吸附确认传感器：未吸住基板，设备不启动，防止飞片。

• 腔室门盖联锁：运行中开盖立即停机。

• 喷嘴超限限位，防止机械撞机；保护薄片基板与设备本身。

6、丰富选件拓展工艺能力

1. 药液温控系统（重要选配）：显影液温度控制，光刻显影速率对温度敏感，温控后工艺一致性大幅提升。

2. 多种基板载台：适配不同尺寸硅片、玻璃、异形基板。

3. 可兼容负胶有机溶剂显影（选配件），不局限普通碱性显影液 TMAH。