MIKASA ED‑3000 旋转湿法蚀刻机（Spin Etcher）

ED‑3000 为12 英寸大基板台式旋转蚀刻 / 剥离设备，对应 ED‑1200 的大尺寸升级机型；腔体与液路全部针对强酸、蚀刻液、剥离液做耐化学改造，用于薄膜湿法蚀刻、光刻胶剥离，常搭配 MS‑B300 匀胶机、AD‑3000 显影机构成 12 寸黄光完整工艺链路ミカサ株式...。ED‑3000无 Puddle 水坑模式，只做喷淋工艺；显影请选用 AD‑3000。核心优势

1. 支持最大 12 英寸晶圆 /220×220mm 方形基板，双摆动喷嘴 Twin‑Swing

• 兼容 1‑12 英寸硅片、玻璃、化合物半导体、陶瓷基板；可选配件可拓展至 300mm 方形基板；吸盘可快速更换，多规格基板切换灵活。

• 双独立摆动喷淋喷嘴，两根摆臂摆动角度、摆动速度可分别编程；大基板表面药液覆盖均匀，边缘蚀刻一致性优秀，改善大片药液分布不均问题。支持正面蚀刻喷淋、正面冲洗、背面冲洗，整套全自动流程。

2. PVC 耐强腐蚀腔体，接液部件耐蚀刻药液ミカサ株式...腔体接液主体采用PVC 材质，适配各类酸系蚀刻液、PR 剥离液；避免不锈钢腔体被强酸腐蚀溶出污染基板；可选 PTFE 特氟龙内衬升级，适配腐蚀性更强药液。

区分 AD‑3000：AD‑3000 腔体 SUS 不锈钢，主要用于 TMAH 碱性显影，不适合强酸蚀刻，不可混用。

3. 压力罐加压给药，液路拓展能力强ミカサ株式...

• 标准采用压力罐加压输送药液，输出压力稳定，喷淋流量波动小，蚀刻速率重复性更好；区别 ED‑1200 内置泵给药。

• 液路可扩展至最多3 路蚀刻药液 + 1 路冲洗液，可实现多步不同蚀刻药液连续自动处理。

• 药液阀采用特氟龙气动阀，耐化学腐蚀，不易结晶卡阀。

4. 伺服旋转平台，工艺可编程，批次重现性好

• 转速 0‑3000rpm 伺服驱动，加减速斜率可编辑；薄晶圆、薄玻璃启停冲击小，降低碎裂风险。

• 程序：48 工艺步骤，存储 10 组完整配方；支持步骤跳过、程序复制；LCD 触摸屏操作；转速、摆臂角度、摆速、喷淋时间全部可编程，蚀刻‑冲洗‑甩干一键自动完成，消除人为操作差异。