美萨MIKASA ED‑1200 旋转湿式蚀刻机（Spin Etcher）介绍

美萨MIKASA ED‑1200 旋转湿式蚀刻机（Spin Etcher）介绍

1. 耐强腐蚀 PVC 腔体，适配蚀刻药液接液腔体采用PVC（聚氯乙烯），针对酸系蚀刻液、剥离液做耐蚀设计；区别 AD‑1200（不锈钢腔体，侧重碱性 TMAH 显影），适合 SiO₂、金属薄膜湿法蚀刻、PR 剥离工艺，减少腔体腐蚀溶出污染基板。

2. 摆动喷淋蚀刻工艺，可完整自动流程单摆动喷淋喷嘴，伺服旋转平台；自动完成：蚀刻喷淋→正面冲洗→背面冲洗→高速甩干一整套流程；旋转喷淋对比浸泡槽蚀刻，药液更新快，图案边缘均匀，药液消耗量更低，适合小尺寸晶圆、玻璃、MEMS 试样研发。ED‑1200不支持 Puddle 水坑模式，只做喷淋蚀刻；水坑仅 AD‑1200 显影机具备。

3. 内置药液输送泵，液路扩展灵活标配内置输送泵，无需外部压力罐即可给药；可扩展最多3 路独立药液管路，切换不同蚀刻液、冲洗液；可选升级压力罐给药单元，药液输出压力更稳定，适合精度严苛蚀刻工艺。

4. 丰富可编程工艺，配方可保存复用

• 最多96 步工艺步骤，支持步骤跳过、程序复制；可存储10 组完整工艺配方；LCD 触摸屏操作；转速、摆动角度、喷淋时间全参数可编程，消除人为操作差异，实验可复现。

• 转速 0‑3000rpm 伺服驱动，加减速曲线可调，薄硅片、薄玻璃启停冲击小，降低碎裂风险。

5. 多重安全联锁，台式紧凑型舱盖开盖联锁、真空吸附确认传感器、喷嘴摆动超限限位；真空未吸附基板禁止启动旋转，防止飞片；整机小巧台式，重量 33kg，可直接放置洁净台内部，适合实验室、小批量试样场景。

6. 丰富选购件药液温控单元、各类真空吸盘（1‑6 英寸、方形基板）、有机溶剂对应规格改造；可接入 CDA 压缩空气或氮气气源