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半导体研发实验室日本大塚Otsuka粒径 + Zeta 电位 + 分子量

更新时间:2026-07-08点击次数:22

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大塚电子(OTSUKA Electronics),隶属大塚制药集团光学仪器事业部,国内全资子公司大塚电子(苏州)有限公司,以动态光散射 DLS为核心技术,主打纳米粒径、Zeta 电位、分子量一体化检测,在半导体 CMP 研磨液、光刻胶、锂电浆料、涂料油墨、生物医药领域日系设备占有率,匹配你常对接的旋涂、湿制程材料质控场景。

一、核心技术原理

  1. 粒径检测:动态光散射 DLS

    660nm 高功率激光照射悬浮纳米颗粒,捕捉布朗运动散射光,算法换算流体力学粒径,测量范围0.1nm~10μm,覆盖胶体、纳米粉体、高分子乳液、CMP 抛光液。

  2. Zeta 电位:电泳光散射激光多普勒法

    实测电渗流补偿,高盐环境、高浓度浆料也能精准测颗粒表面电荷,判断分散 / 团聚稳定性(半导体研磨液、光刻胶分散性核心指标)。

  3. 分子量:静态光散射 SLS

    单次测试同步输出高分子、蛋白重均分子量,适配光刻胶树脂、高分子涂层研发。

二、全系列粒度仪型号分类(按应用场景)

1. ELSZ 系列(实验室全能旗舰,粒径 + Zeta 电位 + 分子量三合一)

(1)ELSZneo(全新顶配款,)

  • 核心能力:多角度散射、微流变测试、凝胶网络分析、0~90℃宽温温控;3μL 超微量样品池,高盐溶液专用平板池大塚電子

  • 测量范围:粒径 0.6nm~10μm;Zeta 电位 ±1000mV;浓度 0.00001%~40%(原液无需稀释直测)

  • 适配客户:半导体研发实验室、CMP 浆料厂、光刻胶材料商、钙钛矿涂布液研发;可监测旋涂用光刻胶颗粒团聚风险

  • 选配:pH 自动滴定模块,连续测不同酸碱环境下粒径 / 电位变化

(2)ELSZ-2000ZS(量产通用款,市场保有量最大)

  • 完整三合一:粒径 + Zeta 电位 + 分子量,基础温控 0~60℃,标配 20μL 微量池、流通池可接在线管路

  • 细分子型号:

    • ELSZ-2000ZS:全功能(粒径 + 电位 + 分子量 + pH 滴定)

    • ELSZ-2000Z:粒径 + Zeta 电位,无分子量模块,性价比款

    • ELSZ-2000S:仅粒径 + 分子量,纯高分子研发用

  • 优势:日系设备稳定性强,连续 72 小时量产质控无漂移,国内半导体厂实验室标配

2. DLS-6500 / DLS-8000 纯纳米粒度分析仪(仅测粒径,专项材料质控)

无 Zeta 电位功能,专注粒径分布,分低浓 / 高浓机型,适合产线快速来料检测:

  • 高浓度原液直测能力行业

    最高兼容 40% 固含量浆料,多数竞品需稀释,稀释会破坏原始团聚状态,CMP 浓浆测试优势显著。

  • 半导体洁净工况适配

    全套特氟龙 / 石英样品池无金属析出,配套防爆、无尘实验室选型方案,可对接旋涂、湿制程产线在线监测。

  • 温控与微量样品优势

    仅需 3μL 样品,0~90℃宽温区间,适配光刻胶高温涂布、钙钛矿热敏药液测试。

  • 本土化完整服务

    苏州全资子公司,现货样机、上门安装调试、原厂校准、中文操作软件、半导体行业专属工艺培训,长三角晶圆厂售后响应 24 小时内到场。

  • 多参数一体化

    单台 ELSZ 系列同时完成粒径、Zeta 电位、分子量、pH 滴定联动测试,无需采购多台设备,节省实验室空间与预算。



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