合肥半导体MIKASA涂布旋涂机合肥半导体MIKASA涂布旋涂机
日本MIKASA米卡萨株式会社 日本MIKASA株式会社中国代理: MIKASA光刻机.旋轉塗鈽機，真空泵日本MIKASA株式会社中国代理: MIKASA光刻机.旋轉塗怖機，真空泵日本MIKASA株式会社中国代理: MIKASA光刻机.旋轉塗鈽機，真空泵 半导体制造工序中的Mikasa半导体设备
晶园、洗涤**晶园表面的脏污及
各种金属离子、成膜
在高温扩散炉中，形成、表面氧化膜
电路图案设计、运用CAD制作布局、布线
设计图。制作光掩膜
将电路图案冲印到中间掩、模上(原版照片)
光刻胶涂布、将光刻胶(感光材料)涂抹到晶
圆表面，形成厚度均一的薄膜。
旋转涂膜仪(P4~P11) 将光掩膜与晶园重合，复制电路
图案。
光刻机(P13~P15)
MIKASA米卡萨旋转涂布机可选组件
显影、去除曝光部位(正胶)的光刻胶。
显影装置(P17. 18)、蚀刻
通过腐蚀氧化膜来蚀刻电路。
蚀刻装置(P19)
离子注入/溅射
向晶园注入离子(混杂物)
滴液装置可选组件 吸盘
●MS-B100/ MS-B150
●MS-B200
●MS-B300
●MS-B200 (密闭型)
●MS-B300 (密闭型)
日本MIKASA光刻机
MA-10
●MA-20
●MA-60F
●M-2LF
●M-1S
日本MIKASA曝光，将光掩膜与晶园重合，复制电路图案。
日本MIKASA显影、蚀刻装置DeveloperEtching
日本MIKASA旋转涂布机MS-A150/MS-B150现货现货旋转涂膜仪
去除曝光部位(正胶)的光刻胶。
●AD-1200
●AD-3000
●PD-1000
日本MIKASA蚀刻装置
蚀刻装置
●ED-1200
●ED-3000
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产品型号：MS-B150
更新时间：2025-07-19
厂商性质：代理商
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