日本进口HORIBA堀场全息平面光栅
HORIBA堀场全息平面光栅是由其旗下Jobin Yvon部门研发制造的高精度衍射光学元件，专为高分辨率光谱学与低杂散光应用设计，广泛应用于科研级光谱仪、工业OEM系统及前沿科学实验中‌。

  日本进口HORIBA堀场全息平面光栅

HORIBA堀场全息平面光栅是由其旗下Jobin Yvon部门研发制造的高精度衍射光学元件，专为高分辨率光谱学与低杂散光应用设计，广泛应用于科研级光谱仪、工业OEM系统及前沿科学实验中‌。

作为全球光谱技术的先驱，HORIBA自1968年推出首片全息光栅以来，持续光栅制造工艺的发展。其全息平面光栅采用先进的全息曝光技术制备母版，并通过高精度复制工艺批量生产，确保性能稳定、周期一致、表面微粗糙度极低 。

核心技术优势：

‌周期性与高精度复制‌

采用‌全息母版光栅‌为基础，复制出的子光栅继承母版的周期结构，显著减少刻划光栅常见的“鬼线"（ghost lines）和周期误差 。

配合洁净室环境与先进计量设备，实现纳米级槽型控制，提升衍射效率与光谱纯度 。

‌极低杂散光与高分辨率‌

全息技术有效消除机械刻划引入的周期性误差，大幅降低杂散光水平，适用于对信噪比要求的拉曼、荧光与吸收光谱测量 。

支持高达‌5670条/毫米‌的刻线密度，可实现亚皮米级光谱分辨率，满足超精细光谱分析需求 。

‌宽光谱适用性与多样化配置‌

光谱响应范围覆盖‌紫外（UV）至近红外（NIR）‌，部分型号延伸至中红外（MIR），适配多种光源与探测器组合 。

基底材料可选熔融石英、Zerodur、Pyrex等，具备优异热稳定性；镀膜包括铝、金、铂及氟化镁，以优化特定波段反射率 。

可用尺寸多样，最大可达‌120×140×20 mm‌，满足大型光谱系统集成需求 。

‌OEM定制化服务能力‌

提供从设计、原型到批量生产的全流程支持，可根据客户系统需求定制刻线密度、槽型轮廓、尺寸与镀膜方案 。

拥有ISO 9001与ISO 14001认证，确保产品质量与可追溯性，适用于医疗、半导体、航天等高可靠性领域 。

日本进口HORIBA堀场全息平面光栅

HORIBAScientific生产范围广泛的全息母版光栅，用于制造高精度复制品。

平面光栅是高分辨率光谱学和低杂散光应用的重要选择。

·母版全息光栅的复制光栅

·周期性和出色的显微粗糙度。

·消除鬼线和低杂散光

·基材:熔融石英、微晶玻璃、派热克斯玻璃....

·刻线密度:从150到5670gr/mm

·宽光谱范围:从紫外到近红外

·可用尺寸:多种标准参考尺寸，最大尺寸可达120x140x20毫米

·镀膜:铝