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产品型号：OEM
更新时间：2026-04-09
厂商性质：代理商
访问量：11
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产品分类
日本进口HORIBA堀场刻划平面光栅
HORIBA堀场刻划平面光栅是采用高精度机械刻划技术制造的经典衍射光学元件，以衍射效率和波长覆盖能力著称，广泛应用于高通量光谱系统、工业OEM设备及科研级分析仪器中 。
核心优势与技术特点
高衍射效率（尤其在红外波段）
通过精密金刚石刀具在金属基底上直接刻划出锯齿形（blazed）沟槽结构，针对特定波长优化，可在TM偏振下实现超过95%的绝对衍射效率，特别适用于CO₂激光器（10.6 µm）等中红外应用 。
宽波长适应性
支持从紫外到远红外（100 nm – 45 µm） 的全波段覆盖，尤其在中红外（MIR）和远红外（FIR）区域表现优异，是传统全息光栅难以替代的关键元件 。
定制化能力强
HORIBA可为特殊应用（如脉冲压缩、高能激光系统）提供定制母版光栅，支持非标准刻线密度、特殊基底材料（如不锈钢）和镀金处理，满足环境下的使用需求 。
成熟稳定的复制工艺
基于母版光栅采用高精度复制技术批量生产，确保性能一致性。复制光栅尺寸通常为 25×25 mm 至 120×140 mm，适用于各类紧凑型光谱模块集成 。
高损伤阈值，适合高功率应用
金属基底结合金膜镀层，具备出色的热稳定性和抗激光损伤能力，可承受高功率连续波（CW）或脉冲激光照射，广泛用于工业激光系统与空间探测设备 。
日本进口HORIBA堀场刻划平面光栅
HORIBAScientific生产范围广泛的刻划母版光栅，用于制造高精度复制品。刻划反射光栅特别适用于需要高效率、高分辨率和覆盖从紫外到红外光谱范围的光谱系统。
·刻划母版光栅的复制光栅
·绝对效率高
·基材:熔融石英、微晶玻璃、派热克斯玻璃.....
·刻线密度:从20到1800 gr/mm
·宽光谱范围:从紫外到红外
·可用尺寸:多种标准参考尺寸，最大尺寸可达120x140x20毫米
·镀膜:铝
