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日本进口HORIBA堀场平场成像光栅
产品简介:

日本进口HORIBA堀场平场成像光栅
HORIBA堀场平场成像光栅Type IV‌ 是专为现代阵列探测器优化的高性能凹面衍射光栅,采用全息技术结合计算机辅助设计,实现光谱在平面焦面上的高分辨率成像,广泛应用于紧凑型光谱仪、OEM工业模块及科研级检测系统中 。

产品型号:Type IV

更新时间:2026-04-09

厂商性质:代理商

访问量:13

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产品介绍

日本进口HORIBA堀场平场成像光栅

HORIBA堀场平场成像光栅Type IV‌ 是专为现代阵列探测器优化的高性能凹面衍射光栅,采用全息技术结合计算机辅助设计,实现光谱在平面焦面上的高分辨率成像,广泛应用于紧凑型光谱仪、OEM工业模块及科研级检测系统中 。

核心优势与技术特点

‌平场成像设计,适配面阵探测器‌

Type IV光栅通过非等距、非平行的沟槽结构设计,实现光谱在‌平面焦面‌上的聚焦,匹配CCD、CMOS等二维探测器,无需额外成像透镜,简化系统结构 。

‌高光通量与优异信噪比‌

得益于大数值孔径(NA)设计和像差校正,Type IV光栅在保持高分辨率的同时显著提升集光效率,信噪比远超传统Rowland圆构型的Type I光栅 。

‌近无像散成像‌

采用优良的‌成像校正PLUS技术‌(Imaging CorrectionPLUS),有效抑制非点像差,尤其在宽波段或多通道测量中仍能保持清晰光谱图像,适合高精度定量分析 。

‌多光源并行检测能力‌

当使用面阵探测器时,可将多个光源同时耦合至入射狭缝,并在探测器上独立分辨各光源光谱,适用于多通道荧光、发射光谱(OES)等应用场景 。

‌高稳定性与工业级适配性‌

基底材料可选熔融石英或微晶玻璃,表面镀铝或金膜,具备良好的热稳定性和抗环境老化能力,适合工业现场与空间探测等严苛环境 。

日本进口HORIBA堀场平场成像光栅

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·全息像差校正母版光栅的复制光栅

·全息母版光栅可以通过离子束蚀刻方法进行闪耀,以提高效率

·适用于坚固、紧凑和低杂散光的光谱仪

·多种光栅可选(目录中未列出多种可选光栅资料)

·线色散:从几纳米/毫米到100纳米/毫米以上

·宽光谱范围:从紫外到红外

·镀膜:铝或金

日本进口HORIBA堀场平场成像光栅


图1:此图显示了“超级校正光栅“将两个独立源成像到两个独立线性阵列上。光谱1是狭缝1的“样本光谱",光谱2是狭缝2的参考光谱。这些“狭缝"可能是光纤输入

HORIBAScientific还提供多种使用这些光栅的产品:光谱仪和高光谱相机。

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