HORIBA堀场光致发光和拉曼晶圆成像
HORIBA（堀场）光致发光（PL）与拉曼晶圆成像系统‌是专为半导体材料与器件研发、工艺监控及质量控制设计的分析工具，融合了光致发光（Photoluminescence, PL）和拉曼光谱（Raman Spectroscopy）两大非接触、无损检测技术。

 HORIBA堀场光致发光和拉曼晶圆成像

HORIBA（堀场）光致发光（PL）与拉曼晶圆成像系统‌是专为半导体材料与器件研发、工艺监控及质量控制设计的分析工具，融合了光致发光（Photoluminescence, PL）和拉曼光谱（Raman Spectroscopy）两大非接触、无损检测技术。

可在同一平台上实现对晶圆级样品的电子结构、应力分布、缺陷密度、组分均匀性等关键参数的高精度、自动化表征。

该系列以‌LabRAM Odyssey‌为代表型号，是目前业界少数能够在‌300mm（12英寸）晶圆‌上实现全自动、高通量、共焦级微区成像的系统之一，广泛应用于SiC、GaN、GaAs、InP等化合物半导体以及先进硅基器件的开发与量产环节。

核心功能与技术优势

‌PL与拉曼一体化成像，数据同步获取‌

系统支持在同一测量点同时采集‌光致发光信号‌（反映载流子复合、带隙、杂质水平）和‌拉曼信号‌（反映晶格振动、应力/应变、结晶质量），避免多次装样带来的定位误差，显著提升分析效率与数据相关性。

‌全自动晶圆级映射，支持全片均匀性评估‌

配备‌300mm×300mm高精度电动载物台‌，可实现整片晶圆的自动扫描与多区域ROI（感兴趣区）快速定位，结合“中途倾斜"自动对焦功能，有效校正晶圆翘曲带来的离焦问题，确保全片数据一致性。

‌高空间与光谱分辨率，满足科研级需求‌

空间分辨率：横向 ‌<0.5 μm‌，轴向 ‌<1.5 μm‌

光谱分辨率：‌≤0.3 cm⁻¹‌（使用3000 gr/mm光栅）

支持低至 ‌5 cm⁻¹‌ 的超低波数测量，适用于石墨烯、二维材料等研究

‌DuoScan™共聚焦成像技术，兼顾速度与精度‌

采用宏点扫描（Macrospot）与亚微米步进扫描双模式：

‌宏点扫描‌：用于全晶圆快速筛查，提升检测 throughput

‌亚微米步进扫描‌：用于缺陷或关键区域的高分辨率成像分析

‌多激光激发与宽光谱覆盖，适配多种材料体系‌

可选激光波长包括 ‌266 nm 至 1064 nm‌，覆盖紫外到近红外范围，适配Si、SiC、GaN、GaAs、InP、钙钛矿等多种半导体材料的激发需求。

‌深度学习辅助缺陷识别（如MiPLATO-SiC系统）‌

针对SiC衬底与外延片中的微管、堆垛层错等复杂缺陷，系统可结合‌高分辨率PL成像与AI算法‌，实现缺陷的自动识别、分类与空间定位，大幅提升良率分析效率。

‌开放架构与多技术联用扩展能力‌

支持与‌原子力显微镜（AFM）、扫描电镜（SEM）、低温冷台（低至4.2K）‌ 等联用，实现纳米级空间分辨的TERS（针尖增强拉曼）或低温PL测量，满足前沿科研需求。

 HORIBA堀场光致发光和拉曼晶圆成像

LabRAM Odyssey半导体显微镜是进行光致发光和拉曼成像的理想工具，适用于直径达300毫米的晶圆样品。HORIBA的畅销款真共焦显微镜配备有自动化的300毫米样品台和物镜转塔，可满足对晶圆均匀性评估和缺陷检测的双重需求。

·带自动转盘和样品台的晶圆映射

这款自动化的300 mm x300 mm XY样品台可接收直径达300mm(12英寸)的晶圆，用于进行拉曼和光致发光映射分析，既可对整片晶圆进行映射，也可对小区域感兴趣点(RO)进行映射。该台架的移动速度及其稳定性确保了在晶圆表面分布的ROI范围内进行快速且可靠的测量

·带晶圆倾斜校正的均匀性测量

“中途倾斜"自动对焦功能可校正任何晶圆翘曲和倾斜现象，从而生成精确的全晶圆均匀度数据，即便针对薄层也不例外。该功能操作迅速，因为它仅需在映射前仅通过五个点(位于中心位置以及位于中心与角部之间的四个点)即可确定最佳对焦高度。

·从全晶圆到高分辨率缺陷映射

使用DuoScanT~技术。DuoScanTM共聚焦成像技术是一种兼具可变尺寸激光宏点扫描(利用超高速扫描镜)与高精度亚微米步进扫描功能的共聚焦成像模式。宏点扫描适用于全晶圆映射，而亚微米步进扫描则适用于缺陷分析。

·PL与拉曼计量一体化工具由于系统光谱范围广泛

从深紫外到近红外，拥有多种激发激光器，使得同一光谱内的光致发光和拉南信号同步测量。PL和Ranhan合一工具显著加快了晶圆的表征速度。

方法:用于高效表征的简易配方构建该方法将允许您全面实现Raman/PL表征流程(数据采集、数据处理、显示与分析)的自动化操作，从而提供可由计量技术专家

轻松管理的超高通量性能“方法"构建流程既简单又直观:流程或计量工程师可以针对每项操作进行优化，并只需点击一次即可将其纳入配方/方法中。各项操作均可方便地进行重新排序、添加或删除。

此自定义模块还借助“模板"功能，这是一种保存和调用一组硬件配置与软件选项的方式。

ParticleFinder PF3:自动化颗粒表征

PF3可快速定位并化学表征整片晶圆上的污染物。

PF3能自动定位并绘制拉曼图谱以显示污染颗粒。此外，PF3还能根据化学特性(有机物质、硅等)自动识别并分类所有检测到的杂质

同时报告形态学特性统计(面积、周长、直径、圆度、亮度、体积估算等)