日本HORIBA堀场半微量药液液体流量计工业钻石MPCVD)金刚石 MPCVD专用质量流量控制器。该质量流量控制器可以控制不同范围的流量：10 SCCM至1000 SLM。SEC-N100系列还支持各种通信模式，SEC-N100系列应用于半导体及电子制造行业、光伏新能源行业、分析仪器与科研实验室、生物医药与化工领域、镀膜、环境监测、一般工业制程。HORIBA质量流量控制器半导体金刚石流量计

日本HORIBA堀场半微量药液液体流量计、日本HORIBA堀场半微量药液液体流量计

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HORIBA堀场LF-F/LV-F 系列

数字式液体质量流量计/控制器

LF-F 和 LV-F 系列数字式液体质量流量控制器采用珀尔帖元件冷却液体，而非更常见的热交换方法。该技术消除了低沸点化学物质沸腾的风险，从而实现更安全的化学控制。

HORIBA‑STEC LF‑F / LV‑F 系列

产品全称：数字式液体微小质量流量计 / 液体质量流量控制器HORIBA

LF‑F = MFM（流量计，仅测量，不带控制阀） LV‑F = LMFC（流量控制器，内置压电阀，闭环流量控制）

产品简介

LF‑F/LV‑F 是堀场专为半导体液体前驱体输送开发的微量液体热式质量流量设备，珀尔帖 (Peltier) 冷却检测方式。传感器不主动加热液体，从根源避免低沸点液体汽化、气泡干扰流量测量，解决传统液体流量计液体沸腾、气堵漂移难题

工作原理‑冷却测量方式

毛细管外侧搭载帕尔贴制冷元件，预先冷却流经传感器的液体；液体流动带走少量热量，测温元件检测微小温升 ΔT 换算出质量流量。

无加热→低沸点液体不会沸腾汽化

不受气泡干扰，测量稳定性大幅提升HORIBA

核心特点

微量液体精准控制 量程覆盖微升级微小流量，适合液体源气化输送。

适配低沸点液体 冷却式检测方案，可管控异丙醇、纯水、各类低沸点有机前驱药液。

超洁净无死区阀体（LV‑F） 压电驱动 + 金属隔膜阀结构；阀体本身不发热，不会造成液体局部受热汽化HORIBA。

数字自动 PID 整定 出厂预设参数，可自动优化响应速度；标配阀堵检测、阀电压监控故障诊断功能HORIBA。

通讯接口 模拟信号（0‑5V）+ RS‑485 (F‑Net 协议)，可对接半导体上位控制系统。

两种流路版本可选

PO 版：标准 SUS316L 流路

MO 版：高耐腐金属流路，适配更多特种药液

LF-F20M-A、LF-F30M-A、LF-F40M-A、LF-F50M-A、LF-F60M-A、

LF‑F、LV‑F、HORIBA、堀场、液体质量流量计、液体质量流量控制器、LMFC、微量液体流量计

帕尔贴冷却检测、防汽化、无气泡干扰、质量流量测量、自动 PID 整定、RS‑485 通讯、压电隔膜阀、阀堵检测

ALD、MOCVD、LDS 液体源气化、半导体前驱体输送、有机溶剂流量控制、光电镀膜供液、新材料微量进料

防汽化液体质量流量控制器 LF‑F/LV‑F 微量药液流量精准控制

无气泡干扰液体流量计｜HORIBA LF‑F / LV‑F 系列

• LF = 液体流量计（无阀）；LV = 液体流量控制器（内置金属膜片阀，Dead-volume 极小）

• F60 = 50/100 g/min 档；F20=0.02/0.05/0.1 g/min，F30=0.2/0.5，F40=1/2/5，F50=10/20

• M-A = 数字式 / 老一代模拟；后缀 PO/MO 指泄漏等级（PO 普通密封、MO 高真空氦检漏级）

• 标定需指定液体种类（水、H2O2、IPA、特殊化学品等），换液要重新标定；含固体颗粒液体不可测，入口建议加 0.2 μm 过滤器

HORIBA LF‑F / LV‑F 数字式液体质量流量计 / 控制器核心特点

帕尔贴冷却检测技术，检测过程不主动加热液体，有效规避低沸点药液汽化、气泡干扰，减少流量漂移与气堵问题。

质量流量检测方式，测量结果不易受液体温度、压力、密度波动影响，流量数据稳定可靠。

支持0.02‑100g/min 微量液体流量管控，流量控制精度高，满足微剂量输送需求。

搭载自动 PID 整定功能；LV‑F 控制器内置压电金属隔膜阀，自带阀堵检测、阀电压监控等故障诊断功能，便于运维。

超洁净无死区流路设计，可选标准 SUS‑316L 流路或高耐腐金属流路，适配多种有机药液。

支持 0‑5V 模拟信号 + RS‑485 (F‑Net) 数字通讯，便于对接设备上位控制系统。

LF‑F 流量计与 LV‑F 控制器外形安装尺寸统一，后期互换便捷。

适配半导体 LDS 液体源气化、ALD、MOCVD、光电镀膜、新材料研发等微量供液工艺，可输送纯水、有机溶剂、低沸点前驱液体。

HORIBA‑STEC LF‑F / LV‑F 系列 应用领域

一、半导体行业（核心应用）

ALD 原子层沉积工艺：微量液态前驱体精准输送，保障薄膜生长均匀性。

MOCVD 金属有机化学气相沉积：金属有机药液、有机源液体定量供给。

CVD 化学气相沉积‑液体源气化系统 (LDS)：配合汽化器完成液体气化供气。

晶圆清洗、刻蚀辅助药液微量配比供给。

二、显示与光电行业

OLED、Mini‑LED 蒸镀工艺，液态有机发光材料微量输送。

LCD 面板镀膜、湿法工艺药液精准加注。

三、新能源光伏产业

钙钛矿电池镀膜，前驱体溶液定量输送。

薄膜太阳能电池液相工艺供液控制。

四、科研与工业设备

实验室化学气相沉积实验设备、液体配比系统。

精细化工、新材料研发，低沸点有机溶剂微量加注。

燃料电池、催化实验微量液体进料。