HORIBA堀场像差校正凹面全息光栅光谱仪
是基于高性能全息凹面光栅（如Type IV）设计的优良光谱分析系统，集色散、聚焦与像差校正于一体，实现高分辨率、高光通量和平场成像，广泛应用于拉曼光谱、荧光检测、OES发射光谱及OEM集成等精密光学场景 。

 HORIBA堀场像差校正凹面全息光栅光谱仪

 是基于高性能全息凹面光栅（如Type IV）设计的优良光谱分析系统，集色散、聚焦与像差校正于一体，实现高分辨率、高光通量和平场成像，广泛应用于拉曼光谱、荧光检测、OES发射光谱及OEM集成等精密光学场景 。

核心优势与技术特点

‌像差校正设计，实现平场成像‌

采用‌Type IV型凹面全息光栅‌，通过非等距、非平行沟槽结构的计算机优化设计，有效校正彗差、像散等高阶像差，在‌平面焦面‌上实现清晰光谱成像，匹配CCD/CMOS面阵探测器，无需额外成像透镜，简化光路结构 。

‌高光通量与优异信噪比‌

光栅采用大数值孔径（NA）设计，结合全息工艺的低表面粗糙度，显著提升集光效率。相比传统Czerny-Turner结构，‌光通量提高30%以上‌，信噪比更优，适合弱光检测应用 。

‌低杂散光与无鬼线干扰‌

全息干涉制造工艺避免了机械刻划带来的周期性误差，表面微粗糙度极低，‌杂散光水平可低于10⁻⁵‌，消除鬼线（ghost lines），保障光谱纯净度，适用于高灵敏度定量分析 。

‌紧凑结构，易于系统集成‌

单光栅一体化设计替代传统多镜系统，体积小巧，结构稳定，抗振动与热漂移能力强，特别适合‌便携式设备、工业在线监测模块和OEM仪器‌的嵌入式集成 。

‌宽光谱覆盖与高分辨率‌

工作波段：‌200–1100 nm‌（可扩展至VUV或NIR）

光谱分辨率：‌0.1–5 nm‌（依狭缝与探测器配置）

支持多通道输入，可实现多点同步光谱采集

‌工业级可靠性‌

采用熔融石英或微晶玻璃基底，表面镀铝或金膜，具备良好的‌热稳定性（-20°C ~ +70°C）与抗环境老化能力‌，适用于严苛工业现场与空间探测任务 。

 HORIBA堀场像差校正凹面全息光栅光谱仪

HORIBAScientific是拉曼光谱领域的领航员，在该技术领域拥有悠久的历史。HORIBAOEM开创了用于光谱、设计和制造的拉曼系统超过40年。我们为过程控制、安全、制药、医疗和半导体等工业应用提供微型光谱仪和系统。CiCi-Raman-785是我们的高性能光谱仪，具有像差校正凹面全息光栅，配置了HoribaScientific的SyncerityTM TE冷却CCD相机和VIS-NIR 2048x70探测器，-50°C制冷。

OEM 工业应用

·过程控制

·药品和化妆品

·地质和矿物学

·碳材料·生命科学

·取证和安全

·半导体

·食品和饮料安全

概要

·坚固耐用的设计可实现超高稳定性和原位监测具有高量子效率的深度冷却CCD

·超长曝光时间

·<0.6nm的高分辨率可选分辨率和光通量

·具有竞争力的价格

·可用于785 nm和532 nm激发波长

·稳定稳健