日本进口HORIBA堀场椭圆偏振光谱仪
‌日本HORIBA（堀场）椭圆偏振光谱仪‌（Ellipsometer）是一类高精度、非接触、非破坏性的光学薄膜表征设备，广泛应用于半导体、光伏、光学镀膜、平板显示、生物材料及先进功能材料等领域。该系列仪器凭借其灵敏度、宽光谱覆盖和自动化性能，成为科研与工业质量控制中的核心分析工具。

日本进口HORIBA堀场椭圆偏振光谱仪

‌日本HORIBA（堀场）椭圆偏振光谱仪‌（Ellipsometer）是一类高精度、非接触、非破坏性的光学薄膜表征设备，广泛应用于半导体、光伏、光学镀膜、平板显示、生物材料及先进功能材料等领域。该系列仪器凭借其灵敏度、宽光谱覆盖和自动化性能，成为科研与工业质量控制中的核心分析工具。

1. ‌UVISEL 2：研究级全自动椭偏仪‌

‌光谱范围‌：‌190–2100 nm‌（FUV 到 NIR），支持全波段材料分析。

‌最小光斑尺寸‌：‌35 μm‌（消色差设计），适用于微区与图案化样品测量。

‌核心技术‌：采用‌相位调制技术‌（PEM），无机械旋转部件，信噪比高、稳定性强。

‌自动化功能‌：

集成‌实时彩色成像系统‌，可精准定位测量区域。

自动选择8种微光斑尺寸，适配不同样品特征。

自动变角测角仪（35°–90°），支持多角度光谱椭偏分析。

XYZ自动样品台，支持大面积 Mapping 与重复性测量。

‌软件平台‌：搭载 ‌DeltaPsi2‌ 软件，提供强大的建模、拟合与数据库支持，适用于复杂多层膜结构分析。

2. ‌UVISEL Plus：高灵敏度模块化椭偏仪‌

‌光谱范围‌：‌190–2100 nm‌，覆盖紫外至近红外。

‌测量速度‌：搭载 ‌FastAcq™ 快速采集技术‌，可在3分钟内完成全光谱高分辨扫描。

‌高灵敏度设计‌：基于‌双调制技术‌（相位+液晶），可检测‌小于1 nm 的超薄膜层‌或界面，甚至表征厚达50 μm的多层结构。

‌应用灵活性‌：

支持‌原位（in-situ）集成‌于工艺腔体或卷对卷设备，实现实时过程监控。

可选微光斑、自动Mapping、液体池等附件，满足科研与产线多样化需求。

‌无损测量‌：对透明样品背面无需刮除，即可准确分析多层结构与背反射干扰。

3. ‌Auto SE：一键式全自动薄膜测量仪‌

‌定位‌：面向‌质量控制与产线快速检测‌，强调操作简便与高重复性。

‌光谱范围‌：‌450–1000 nm‌，适用于常见薄膜材料的快速表征。

‌核心特点‌：

‌一键式全自动操作‌：几秒内完成测量与分析，输出完整报告（厚度、n/k值、粗糙度等）。

‌CCD 探测器 + 液晶调制技术‌，无移动部件，长期稳定性优异。

配备 ‌MyAutoView 光斑可视系统‌，可清晰观察样品表面并精确定位测量点。

支持自动MAPPING，评估镀膜均匀性。

‌智能诊断‌：内置操作向导，可自动检测故障并提示维护，降低使用门槛。

4. ‌Smart SE：智能型多功能椭偏仪‌

‌光谱范围‌：‌450–1000 nm‌，支持多角度与多光斑切换。

‌特点‌：模块化设计，支持在线/离线切换，适用于教学、研发与中小型企业应用。

技术优势总结

✅ ‌非破坏性、无需真空环境‌：适用于各类固体、液体界面分析。

✅ ‌高精度与高灵敏度‌：可测‌单原子层级别薄膜‌，精度达±0.002 n/k值。

✅ ‌宽材料适用性‌：涵盖半导体、氧化物、聚合物、有机物、金属及多层复合结构。

✅ ‌全自动化与智能化‌：从样品加载、测量到数据分析全程自动，适合非专家用户使用。

✅ ‌支持原位与在线集成‌：满足先进制造中实时工艺监控需求。

日本进口HORIBA堀场椭圆偏振光谱仪

光谱范围从FUV到NIR:190-2100nm

UVISELPlus椭圆偏振光谱仪为先进薄膜、表面和界面表征提供了模块化和性能的优化组合。

UVISELPlus作为一款高准确性、高灵敏度、高稳定性的经典椭偏机型，它采用了PEM相位调制技术，与机械旋转部件技术相比，能提供更好的稳定性和信噪比。光谱范围从190nm到2100nm。

UVISELPlus集成了全新的FastAcqTM快速采集技术，可在3分钟以内实现高分辨的样品测试(190-2100nm)，校准仅需几分钟。基于全新的电子设备，数据处理和高速单色仪，FastAcq技术能够为用户提供高分辨及快速的数据采集。FastAcq专门为薄膜表征设计，双调制技术可以确保您获得优异的测试结果。

相位调制技术的特点为高频调制50kHz，信号采集过程无移动部件:

测试全范围的椭偏角，甲(0-90)，A(0-360)

从FUV到NIR具有优良的信噪比

数据采集速度快，高达50毫秒/点，是动力学研究和在线测量的理想选择

相比于采用旋转元件调制的传统椭圆偏振光谱仪，UVISELPlus的相位调制模式在表征薄膜方面具有更高的灵敏度和精度。它不仅可以探测到其他椭偏仪无法观测到的极薄膜或界面，还可以表征50um的厚膜。在测试有背反射的透明样品时，测试简单、准确，无需刮花背面。

UViSEL Plus还设计有多种附件及可选功能，便于客户根据应用需求及预算选择合适的配置。比如，微光斑用于图案样品、自动变角器、自动样品台等。

UVISELPlus采用模块化设计，可灵活扩展。即可用于离线台式测量，也可以耦合于镀膜设备做在线监控。

UVISEL Plus可根据习惯选择操作界面，一个是 DeltaPsi2 具有建模和拟合处理功能;另一个是 Auto-Soft 用户导向的全自动样品测试界面，工作流程百观，易于非专业人士操作。

UVISELPlus搭载FastAcq技术是材料研究和加工、平板显示、微电子和光伏领域中优选通用光谱型椭偏仪。

UVISELPlus是材料科学研究的理想工具。

产品优势

·高精度和高灵敏度

·模块化设计·宽光谱范围:190-2100 nm

·集数据测量、建模和自动化操作为一体的软件包

获得的信息

·膜层厚度，从1A到50um

·表面和界面粗糙度

·光学常数(n,k)，适用于各向同/异性和渐变层光学特性如:吸收系数a，光学带隙Eg

·材料性能:合金成分、孔隙率、结晶度及形貌等

·穆勒矩阵

·退偏