国内代理 DNK大日本科研研究用曝光装置
DNK大日本科研‌（大日本科研株式会社）是日本精密光刻设备制造商，专注于为半导体、FPD（平板显示）、MEMS、有机EL、触摸屏等领域提供高精度曝光解决方案。其‌实验与研究用曝光装置‌系列，以高稳定性、灵活配置和紧凑设计著称，广泛应用于高校、科研院所及企业研发部门。

国内代理 DNK大日本科研研究用曝光装置

 DNK大日本科研‌（大日本科研株式会社）是日本精密光刻设备制造商，专注于为半导体、FPD（平板显示）、MEMS、有机EL、触摸屏等领域提供高精度曝光解决方案。其‌实验与研究用曝光装置‌系列，以高稳定性、灵活配置和紧凑设计著称，广泛应用于高校、科研院所及企业研发部门。

核心产品系列：实验·研究用曝光装置

1. ‌MA-1200 型 手动式整面单次曝光机‌

‌适用基材‌：玻璃、晶圆（Wafer）、胶片等

‌最大曝光尺寸‌：‌500mm × 500mm‌

‌曝光方式‌：支持接触曝光（软接触/硬接触）与接近曝光

‌光源系统‌：可选配500W、1kW、2kW、3.5kW超高压水银灯，搭配特殊透镜与聚光镜，实现均匀照射

‌特点‌：

手动操作，结构紧凑，适合小批量试制与高混合生产

可选配无尘机房、自动对位、背面对位等功能

支持破碎基板等特殊尺寸定制（需商洽）

该设备是实验室与研发场景的理想选择，尤其适用于新材料、新工艺的验证测试。

2. ‌MA-1400 型 简练设计手动曝光装置‌

‌基板尺寸‌：最大 ‌400mm × 400mm‌

‌光源功率‌：2kW 或 3.5kW 超高压水银灯

‌本体尺寸‌：W1440 × D1590 × H1882 mm

‌重量‌：400kg（含无尘机房）

‌特点‌：

专为玻璃、晶圆、胶片等材料设计，操作简便

适合小批量生产与教学研究使用

可扩展配置自动对位、硬接触（真空密着式）等选件

3. ‌MA-1200A 型 高混合生产专用机‌

‌特色功能‌：实现‌稳定的自动间隙控制‌

‌应用场景‌：高混合、小批量生产、研发试作

‌优势‌：通过优化结构设计，减少占地面积，提升空间利用率

‌适用领域‌：半导体封装、MEMS器件、光电子器件研发

国内代理 DNK大日本科研研究用曝光装置

简练设计的手动式整面单次曝光装置。

主要特长

对应玻璃、Wafer、胶片等基材的实验研究用手动整面单次曝光机。也适合小批量生产。

 可选择接触曝光(软接触、硬接触)和近接曝光。

对应最大尺寸为500mmx500mm的基板。根据用途和基板尺寸,配置有最佳组合的光学系统。其中包括:超高压水银灯(500W、1kW、2kW、3.5kW)、各种光学镜、特殊镜头、聚光镜等。