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产品型号
MA-4000 -
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2026-04-17 -
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代理DNK大日本科研化合物半导体用曝光装置 DNK大日本科研（大日本科研株式会社）是日本精密光刻设备制造商，其化合物半导体用曝光装置（Mask Aligner）专为高精度、多层对位的化合物半导体制造设计，广泛应用于GaAs、GaN、SiC等第三代半导体材料的器件研发与生产。
13915577898
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MA-4000厂商性质
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11产品描述
代理DNK大日本科研化合物半导体用曝光装置 DNK大日本科研（大日本科研株式会社）是日本精密光刻设备制造商，其化合物半导体用曝光装置（Mask Aligner）专为高精度、多层对位的化合物半导体制造设计，广泛应用于GaAs、GaN、SiC等第三代半导体材料的器件研发与生产。
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MA-1400厂商性质
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2026-04-17浏览次数
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进口DNK大日本科研实验研究用曝光装置 DNK大日本科研（大日本科研株式会社）是日本精密光刻设备制造商，专注于为半导体、FPD（平板显示）、MEMS、有机EL、触摸屏等领域提供高精度曝光解决方案。其实验与研究用曝光装置系列，以高稳定性、灵活配置和紧凑设计著称，广泛应用于高校、科研院所及企业研发部门。
产品型号
MA-1300厂商性质
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2026-04-17浏览次数
11产品描述
DNK大日本科研国内代理研究用曝光装置 DNK大日本科研（大日本科研株式会社）是日本精密光刻设备制造商，专注于为半导体、FPD（平板显示）、MEMS、有机EL、触摸屏等领域提供高精度曝光解决方案。其实验与研究用曝光装置系列，以高稳定性、灵活配置和紧凑设计著称，广泛应用于高校、科研院所及企业研发部门。
产品型号
MA-1200厂商性质
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2026-04-17浏览次数
10产品描述
国内代理 DNK大日本科研研究用曝光装置 DNK大日本科研（大日本科研株式会社）是日本精密光刻设备制造商，专注于为半导体、FPD（平板显示）、MEMS、有机EL、触摸屏等领域提供高精度曝光解决方案。其实验与研究用曝光装置系列，以高稳定性、灵活配置和紧凑设计著称，广泛应用于高校、科研院所及企业研发部门。
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Roll to Roll厂商性质
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2026-04-16浏览次数
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日本进口DNK大日本科研胶片用曝光装置 是一款专为实验与研究场景设计的高精度手动曝光设备，适用于玻璃、晶圆、胶片等多种基材，是小批量生产与研发的理想选择。