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产品型号
MA-5301ML -
厂商性质
代理商 -
更新时间
2026-04-15 -
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产品描述
进口DNK大日本科研Ø300mm 兼容曝光机 进口DNK大日本科研Ø300mm兼容曝光机主要用于化合物半导体、MEMS、FPD等领域的实验与小批量生产，支持Ø300mm晶圆的高精度曝光需求。
13915577898
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产品分类
产品型号
MA-5301ML厂商性质
代理商更新时间
2026-04-15浏览次数
20产品描述
进口DNK大日本科研Ø300mm 兼容曝光机 进口DNK大日本科研Ø300mm兼容曝光机主要用于化合物半导体、MEMS、FPD等领域的实验与小批量生产，支持Ø300mm晶圆的高精度曝光需求。
产品型号
MA-4301M厂商性质
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2026-04-15浏览次数
23产品描述
进口DNK大日本科研Ø200mm 兼容曝光机 进口DNK大日本科研化合物半导体用Ø200mm曝光机是专为高精度光刻工艺设计的关键设备，广泛应用于LED、激光二极管（LD）、功率器件等化合物半导体的研发与小批量生产，支持Φ200mm（8英寸）晶圆的高效图形转移。
产品型号
MA-4000厂商性质
代理商更新时间
2026-04-15浏览次数
19产品描述
DNK大日本科研化合物半导体用曝光装置 MA-4000是一款专为高精度光刻工艺设计的立式接近式曝光设备，广泛应用于LED、激光二极管、功率器件等化合物半导体的研发与中试生产。
产品型号
MA-1300厂商性质
代理商更新时间
2026-04-15浏览次数
19产品描述
日本进口DNK大日本科研实验研究用曝光装置 日本进口DNK大日本科研研究用曝光装置MA-1400 是一款专为实验与研究场景设计的手动式整面单次曝光设备，适用于玻璃、晶圆、胶片等基材的光刻工艺，特别适合小批量生产与高混合度研发需求。
产品型号
MA-1200厂商性质
代理商更新时间
2026-04-15浏览次数
20产品描述
日本进口DNK大日本科研研究用曝光装置 MA-1200是一款专为实验与研究场景设计的手动式整面单次曝光设备，适用于玻璃、晶圆、胶片等基材的光刻工艺，是小批量生产与高混合研发的理想选择。