日本进口DNK大日本科研实验研究用曝光装置
日本进口DNK大日本科研研究用曝光装置MA-1400‌ 是一款专为实验与研究场景设计的手动式整面单次曝光设备，适用于玻璃、晶圆、胶片等基材的光刻工艺，特别适合小批量生产与高混合度研发需求。

日本进口DNK大日本科研实验研究用曝光装置

日本进口DNK大日本科研研究用曝光装置MA-1400‌ 是一款专为实验与研究场景设计的手动式整面单次曝光设备，适用于玻璃、晶圆、胶片等基材的光刻工艺，特别适合小批量生产与高混合度研发需求。

该设备具备以下核心特性：

‌多种曝光模式可选‌：支持接触曝光（软接触、硬接触）和近接曝光，可根据不同材料与工艺要求灵活调整，确保图形转移的高精度与重复性。

‌大尺寸基板兼容‌：最大可处理‌500 mm × 500 mm‌的基板，满足广泛科研与试产应用，尤其适用于新型显示、微机电系统（MEMS）和先进封装等前沿领域。

‌高性能光源系统‌：配备超高压汞灯（可选2kW或3.5kW），结合特殊透镜、聚光镜与反射镜的光学组合，实现高均匀性与稳定能量输出，保障曝光质量。

‌紧凑且稳定的设计‌：本体尺寸为宽1440 mm × 深1590 mm × 高1882 mm，整机重量约400 kg（含无尘围栏），结构稳固，节省实验室空间，适合在洁净室或标准实验室环境中长期运行。

‌高度可扩展配置‌：支持选购无尘围栏、背面对位、自动对位、真空硬接触（硬接触式密着曝光）以及破碎基板处理等特殊功能，用户可根据具体研究需求进行定制化配置。

日本进口DNK大日本科研实验研究用曝光装置

主要特长

·对应玻璃、Wafer、胶片等基材的实验研究用手动整面单次曝光机。也适合小批量生产。

·可选择接触曝光(软接触、硬接触)和近接曝光。

·对应最大尺寸为500mmx500mm的基板。根据用途和基板尺寸,配置有最佳组合的光学系统。其中包括:超高压水银灯(500W、1kW、2kW、3.5kW)、各种光学镜、特殊镜头、聚光镜等。