日本进口DNK大日本科研研究用曝光装置
MA-1200‌是一款专为实验与研究场景设计的手动式整面单次曝光设备，适用于玻璃、晶圆、胶片等基材的光刻工艺，是小批量生产与高混合研发的理想选择。

日本进口DNK大日本科研研究用曝光装置

MA-1200‌是一款专为实验与研究场景设计的手动式整面单次曝光设备，适用于玻璃、晶圆、胶片等基材的光刻工艺，是小批量生产与高混合研发的理想选择。

该设备具备以下核心特点：

‌灵活的曝光模式‌：支持接触曝光（软接触/硬接触）和接近曝光，可根据不同工艺需求灵活切换，确保图形转移的精度与稳定性。

‌大尺寸基板兼容性‌：最大可支持500 mm × 500 mm的基板，满足多种科研与小规模试产的应用需求。

‌高性能光学系统‌：配备超高压汞灯（可选500W或1kW），并结合特殊透镜、聚光镜与反射镜进行组合，确保光照均匀度高、能量输出稳定。

‌紧凑结构设计‌：本体尺寸为宽1240 mm × 深1100 mm × 高1725 mm，重量约400 kg（含无尘机房），节省实验室空间，适合空间有限的研究环境。

‌可定制化配置‌：支持无尘机房、背面对位、自动对位、真空硬接触及破碎基板处理等特殊选项，用户可根据具体研究需求咨询定制。

MA-1200广泛应用于微电子、光电子、新材料等领域的实验室中，用于光刻胶曝光、微结构图案化、半导体器件试制等关键工艺环节，尤其适合需要稳定工艺控制与高重复性的科研项目。

日本进口DNK大日本科研研究用曝光装置

主要特长

·对应玻璃、Wafer、胶片等基材的实验研究用手动整面单次曝光机。也适合小批量生产。

·可选择接触曝光(软接触、硬接触)和近接曝光。

·对应最大尺寸为500mmx500mm的基板。根据用途和基板尺寸,配置有最佳组合的光学系统。其中包括:超高压水银灯(500W、1kW、2kW、3.5kW)、各种光学镜、特殊镜头、聚光镜等。

主要规格：