进口DNK大日本科研Ø300mm 兼容曝光机
进口DNK大日本科研Ø300mm兼容曝光机‌主要用于化合物半导体、MEMS、FPD等领域的实验与小批量生产，支持Ø300mm晶圆的高精度曝光需求。

进口DNK大日本科研Ø300mm 兼容曝光机

进口DNK大日本科研Ø300mm兼容曝光机‌主要用于化合物半导体、MEMS、FPD等领域的实验与小批量生产，支持Ø300mm晶圆的高精度曝光需求。

该设备采用手动式整面单次曝光设计，适用于玻璃、Wafer、胶片等基材，具备良好的工艺灵活性。支持接触曝光（软接触/硬接触）和近接曝光模式，确保不同材料的对位精度与曝光均匀性。

其核心光学系统可配置超高压水银灯（最高达3.5kW），并搭配特殊镜头、聚光镜等组件，实现照射面高照度与均匀性，满足科研级工艺要求。

此外，设备搭载自动对位功能，通过高速图像处理技术实现±1μm级别的对齐精度，适用于高密度封装件与先进半导体器件的研发。

MA-5301ML型号为典型代表，支持Ø300mm晶圆曝光，同时兼容Ø200mm规格，具备扩展性，是实验室与中试产线的理想选择。

进口DNK大日本科研Ø300mm 兼容曝光机

主要特长

·搭载本公司镜面光学系统爆光灯房(LAMPHOUSE)。从而实现了照射面内的均匀性以及高照度。

·采用本公司同轴对位方式和高速图像处理技术，从而实现了高精度对位。还支持IR方式和背面方式。

·通过本公司光学式间隙传感器，可在非接触状态下高速、精确的设定掩膜和基板间的近接间隙。

·搭载有掩膜更换机。最多可自动更换20张掩膜。

·最多可搭载3台片仓(Load port)

主要规格