日本进口DNK大日本科研胶片用曝光装置
是一款专为实验与研究场景设计的高精度手动曝光设备，适用于玻璃、晶圆、胶片等多种基材，是小批量生产与研发的理想选择。

 日本进口DNK大日本科研胶片用曝光装置

是一款专为实验与研究场景设计的高精度手动曝光设备，适用于玻璃、晶圆、胶片等多种基材，是小批量生产与研发的理想选择。

该装置主要型号包括‌MA-1200‌和‌MA-1400‌，具备以下核心特点：

‌兼容性强‌：支持最大500 mm × 500 mm的基板尺寸，适用于不同规格的胶片曝光需求。

‌多种曝光模式‌：可选择接触式曝光（软接触/硬接触）或接近曝光，满足不同工艺对分辨率与均匀度的要求。

‌高性能光源系统‌：配备超高压汞灯（500W、1kW、2kW、3.5kW可选），并可根据应用需求搭配特殊透镜、聚光镜等光学组件，实现最佳光照组合。

‌紧凑设计‌：设备结构紧凑，节省实验室空间，尤其适合高混合、小批量的实验环境。

‌可扩展功能‌：支持选配无尘围栏、背面对位、自动对位、真空紧密接触（硬接触）等功能，满足特殊工艺需求（需提前咨询）。

该装置由‌大日本科研株式会社（DNK）‌研发制造，广泛应用于液晶面板、LED、光电子器件及微细加工领域的研究与试产环节。其稳定性和灵活性使其成为高校、科研机构及企业研发部门的重要工具。

日本进口DNK大日本科研胶片用曝光装置

适合触摸屏、电子纸、光学胶片(3D等)、有机EL用掩膜等胶片形状基材的曝光机。对应RolltoRoll,可实现软性、薄型、轻量基材的大量生产。

主要特长

 除近接曝光外，还可对应接触曝光(软接触和硬接触)

·可对应幅度为500mm以上的大型胶片。

采用独自的光学系统,可选择单面曝光或双面曝光。还能进行一灯式双面曝光。

，装载有自动对位功能。通过特殊照明实现透明材料的对位。

，除Rollto Roll外可设计枚叶式搬送等机构,根据客户的需要构成装置。

 可选择基板台温度控制及掩膜冷却规格等。(选购项)

主要用途

触摸屏、电子纸、光学胶片(3D等)、有机EL、锂离子电池、太阳能电池、印刷线路板