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产品型号：C11295
更新时间：2026-07-18
厂商性质：代理商
访问量：18
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产品分类
采用光谱 / 激光干涉光学检测，非接触、无损伤精准测量透明 / 半透明薄膜涂层厚度，用于产线在线监控、实验室质检，管控涂层均匀度，避免膜厚超标导致产品不良。
Multipoint NanoGauge 膜厚测量系统 C11295 是一种利用光谱干涉法的薄膜膜厚测量系统。作为半导体制造过程的一部分，它旨在测量薄膜厚度，以及用于对安装在半导体制造设备上的 APC 和薄膜进行质量控制。允许实时进行多通道测量，可在薄膜表面同时进行多通道测量和多点测量。同时，它还可以测量反射率（透射率）、物体色及其随时间的变化。
特点：
可同时执行多达 15 个点的膜厚测定
无参考操作
通过校正光强度波动实现稳定的长期测量
警报和警告功能（通过/失败）
反射率（透射率）和光谱测量
高速度和高精度
实时测量
精确测量起伏不定的薄膜
分析光学常数（n、k）
提供外部控制
详细参数：
| 型号 | C11295-XX*1 |
|---|---|
| 可测量的薄膜厚度范围（玻璃） | 20 nm 至 100 μm*2 |
| 测量重现性（玻璃） | 0.02 nm*3 *4 |
| 测量精度（玻璃） | ±0.4%*4 *5 |
| 光源 | 氙光源 *6 |
| 测量波长 | 320 nm 至 1000 nm |
| 光斑尺寸 | 约 φ1 mm*4 |
| 工作距离 | 10 mm*4 |
| 可测量层数 | 最多 10 层 |
| 分析 | FFT 分析、拟合分析 |
| 测量时间 | 19 ms/point*7 |
| 光纤连接器形状 | SMA |
| 测量点数 | 2 至 15 |
| 外部控制功能 | 以太网 |
| 接口 | USB 2.0（主机 - 计算机） RS-232C（光源 - 计算机） |
| 电源 | AC100 V 至 AC240 V，50 Hz/60 Hz |
| 功耗 | 2 通道时：大约 350 VA，15 通道时：约 500 VA |
*1：-XX 表示测量点的数量。
*2：当以玻璃折射率 1.5 进行转换时。
*3：测量 400 nm 厚玻璃膜时的标准偏差（容差）。
*4：取决于使用的光学系统或物镜放大率。
*5：VLSI 标准测量保证文件中记录的测量保证范围。
*6：卤素光源型号为 C11295-XXH。
*7：最短曝光时间。
尺寸：
量程（玻璃基底）：20 nm ～ 100 μm，覆盖纳米涂层至薄基材
可解析层数：最多 10 层复合薄膜
重复精度：0.02 nm（玻璃基底）
测量准确度：读数 ±0.4%
单点测量速度：19 ms / 点，多通道同步无时间差
光源：宽光谱氙灯（320–1000nm）
光斑尺寸：φ1 mm
标准工作距离：10 mm
通道配置：可定制 2～15 通道（测点）同步采集
整机功耗：2 通道≈350W，15 通道≈500W
外形尺寸：442×308×123.5 mm，整机约 6 kg
光纤接口：SMA 光纤探头，单根光纤最长 10m
通讯：Ethernet、RS232C、USB，支持 PLC、上位机、涂布机联动
输出功能：实时厚度曲线、OK/NG 上下限报警、厚度数据存储导出、二维分布数据
最多 15 点同步测量
普通单通道设备只能逐点扫描，存在时间差；C11295 多探测器并行采集，卷材同一截面横向多点同时取值，精准捕捉幅宽左右厚薄差、边部涂层异常，适合宽幅锂电隔膜、光学膜产线。
免参比、长期稳定量产
内置光强自动校正算法，长时间 24 小时运行漂移极小，无需频繁校准标准片，大幅减少产线停机维护。
兼容多层薄膜同步解析
一次性分离基材 + 表面纳米涂层厚度，例如锂电隔膜PP 基膜 + 陶瓷涂覆层分开读数。
多维度同步检测
除膜厚外，同步采集反射光谱、透射率、膜层光学常数 n/k，用于涂层配方、色差、均匀度综合管控。
抗高度波动
卷材轻微抖动、基材起伏不影响测量稳定性，适配高速卷对卷涂布、分切工序。
C11295 主机控制器（光谱分光、运算、多通道同步控制）
多点光纤测量探头（按需 2–15 支独立测头，SMA 接头）
配套分析软件：实时监控、数据记录、上下限报警、Mapping 扫描拓展
选配：电动位移台、多通道 PLC 报警模块、洁净车间加长光纤
