美萨代理SSD西西蒂耐热除静电装置HTB系列工作范围可达150°C至200°C。该设备结合耐热电极HTB、专用高压电源SAT-HTB01以及随附的高压电缆。其他延长线、分支盒和高压电源则无法使用。±5000伏放电到±500伏放电时间约0.3秒，速度非常快。电极可以两端同时固定。紧凑设计，电极截面较小。高压线还具有200°C的耐热屏蔽。（从高压连接器底部到150毫米）SSD西西蒂耐热型除静电消除器HTB是**高温工况专用AC交流电晕式离子发生棒**，...

静电敏感等级：半导体芯片、光学件、FPC、保险丝元器件（高敏感）；塑胶、薄膜、纸张（普通）物料形态：卷材/传送带连续走料、零散工件、颗粒粉料；工件尺寸、有效宽度是否怕气流吹偏小零件：风力不能过大工艺工况产线速度：高速卷材/低速流水线/静态工位；速度越快，需要消电响应越快安装距离（工作WD）：设备放电头到工件的实际距离，是选型第一关键；离子随距离快速衰减是否有压缩空气气源：离子风棒、风枪、风嘴绝大多数需要干燥洁净压缩空气；离子风机不需要气源环境：普通车间/无尘车间；有无溶剂、易...

日本春日电机株式会社ASIBS/ASIBL系列的资料ASIBS/ASIBL系列（新一代智能AC离子棒）ASIBS‑300~ASIBS‑3000（短款，薄型）；ASIBL‑300~ASIBL‑3000（带吹气槽）钨针电极，可自定义有效长度；支持异常报警、信号输出，半导体/薄膜产线主力。APKF系列APKF‑400B/APKF‑550B/APKF‑800B，经典通用款，薄膜、分切机常用，需搭配PAS高压电源。KD‑309B/KD‑309BS老款AC棒，备件替换较多。CFB系列陶瓷...

美萨KASUGA春日电机（春日電機株式会社）的产品介绍日本老牌静电消除专业厂商，创立1955年，专注静电消除、静电测量、防爆除电、电晕表面处理，在薄膜涂布、印刷、半导体、电子组装、化工防爆领域应用很多，防爆除静电是其强项，对标SSD、SIMCO、基恩士静电系列抖音百科。离子风棒（棒型除静电器）：卷材、流水线、薄膜分切、涂布机离子风机（台式/悬挂）：工位、组装、检测工位离子风枪、离子风咀：局部除尘除静电静电测量仪器：静电电位计、在线监测控制器防爆型除静电装置：化工、涂布防爆产线...

美萨代理日本yamada山田光学元件检测8/12寸硅片、SiC晶圆CMP抛光后划痕、雾斑、滑移线；LCD/OLED大尺寸玻璃基板、大口径光学镜片目视外观检查。YP-250ILHPS-250美萨代理日本yamada山田光学元件检测8/12寸硅片、SiC晶圆CMP抛光后划痕、雾斑、滑移线；LCD/OLED大尺寸玻璃基板、大口径光学镜片目视外观检查。ApplicationexampleWaferａndglasssubstrateinspectionYP-250ILHPS-250美萨...

yamada山田光学元件检测YP-250ILHPS-250美萨代理日本yamada山田光学元件检测8/12寸硅片、SiC晶圆CMP抛光后划痕、雾斑、滑移线；LCD/OLED大尺寸玻璃基板、大口径光学镜片目视外观检查。ApplicationexampleWaferａndglasssubstrateinspectionYP-250ILHPS-250美萨代理日本yamada山田光学元件检测8/12寸硅片、SiC晶圆CMP抛光后划痕、雾斑、滑移线；LCD/OLED大尺寸玻璃基板、大口...

日本山田光学YP-150I高亮度卤素光源装置‌所使用的灯管是其核心发光部件，直接影响照明性能与检测精度。该设备采用‌JCR15V150W（牛尾）型卤素灯泡‌，具备高色温（约3,400K）和高照度输出能力，可在样品表面提供‌超过400,000Lux‌的光照强度，确保细微划痕、异物、抛光不均等缺陷清晰可见。高亮度卤素光源设备YP-150I‌是由日本山田光学（YAMADA）研发的工业级照明装置，专用于半导体、液晶面板和精密电子元件制造中的表面缺陷检测。它通过提供‌超过400,000...

AMADA高亮度卤素光源装置山田光学工业YP-150I超高照度目视检出微小缺陷：可识别约0.2μm级微划痕、雾斑、抛光残留、滑移线、表面颗粒，多用于晶圆、玻璃基板目视抽检秋山科技（...。连续卤素光谱：相比LED检查灯，无蓝光偏色，真实还原表面色差纹理，降低目视误判；缺点是灯泡寿命短，属于高频消耗品。冷镜降热：热辐射大幅削弱，薄晶圆、光学膜片短时间检测不易受热翘曲变形。直流点灯电路，照度稳定性好，适合产线QC工位目视检查半导体：Si/SiC晶圆CMP抛光后划痕、雾状缺陷、滑移...

代理YAMADA山田光学工业高亮度卤素光源装置HPS-1501.**超高照度目视检出微小缺陷**：可识别约0.2μm级微划痕、雾斑、抛光残留、滑移线、表面颗粒，多用于晶圆、玻璃基板目视抽2.**连续卤素光谱**：相比LED检查灯，无蓝光偏色，真实还原表面色差纹理，降低目视误判；缺点是灯泡寿命短，属于高频消耗品。3.**冷镜降热**：热辐射大幅削弱，薄晶圆、光学膜片短时间检测不易受热翘曲变形。4.直流点灯电路，照度稳定性好，适合产线QC工位目视检查。高辉度卤素表面检查光源装置，...

MIKASAED‑3000旋转湿法蚀刻机（SpinEtcher）ED‑3000为12英寸大基板台式旋转蚀刻/剥离设备，对应ED‑1200的大尺寸升级机型；腔体与液路全部针对强酸、蚀刻液、剥离液做耐化学改造，用于薄膜湿法蚀刻、光刻胶剥离，常搭配MS‑B300匀胶机、AD‑3000显影机构成12寸黄光完整工艺链路ミカサ株式...。ED‑3000无Puddle水坑模式，只做喷淋工艺；显影请选用AD‑3000。核心优势支持最大12英寸晶圆/220×220mm方形基板，双摆动喷嘴Twi...

美萨MIKASAED‑1200旋转湿式蚀刻机（SpinEtcher）介绍耐强腐蚀PVC腔体，适配蚀刻药液接液腔体采用PVC（聚氯乙烯），针对酸系蚀刻液、剥离液做耐蚀设计；区别AD‑1200（不锈钢腔体，侧重碱性TMAH显影），适合SiO₂、金属薄膜湿法蚀刻、PR剥离工艺，减少腔体腐蚀溶出污染基板。摆动喷淋蚀刻工艺，可完整自动流程单摆动喷淋喷嘴，伺服旋转平台；自动完成：蚀刻喷淋→正面冲洗→背面冲洗→高速甩干一整套流程；旋转喷淋对比浸泡槽蚀刻，药液更新快，图案边缘均匀，药液消耗量...

美萨MIKASA米卡萨旋转显影机SpinDeveloper兼容12英寸大基板，双摆动喷嘴（Twin‑Swing）最大基板φ12英寸，方形基板220×220mm，兼容2‑12寸硅片、玻璃、化合物基板、陶瓷基板，吸盘可更换。双摆动喷淋喷嘴，相比AD‑1200单喷嘴，大基板药液覆盖更均匀，边缘显影一致性更好；同时支持Puddle水坑静态显影，薄胶、高精度图形工艺友好，药液消耗更低ミカサ株式...。不锈钢耐化学腔体，长寿命腔体接液部位采用SUS不锈钢材质，抗碱性显影液、部分湿法蚀刻药...