日本进口 HORIBA堀场大面积成像椭偏仪
日本HORIBA（堀场）大面积成像椭偏仪‌（Large-Area Imaging Ellipsometer）是一款专为‌平板显示（FPD）、光伏（PV）及大面积功能薄膜‌研发与生产质量控制设计的高性能、非接触式光学测量系统。

日本进口 HORIBA堀场大面积成像椭偏仪

日本HORIBA（堀场）大面积成像椭偏仪‌（Large-Area Imaging Ellipsometer）是一款专为‌平板显示（FPD）、光伏（PV）及大面积功能薄膜‌研发与生产质量控制设计的高性能、非接触式光学测量系统。

该设备结合了‌高空间分辨率成像‌与‌光谱椭偏技术‌，能够在整块面板或基板上实现‌全区域、高通量、无损‌的薄膜厚度、光学常数（n, k）及均匀性分析，是实现从研发到量产全流程监控的核心工具。

核心技术与性能优势

‌大面积快速成像能力‌：

支持对‌整块玻璃基板或柔性卷材‌进行自动扫描与成像，可实现‌面板上任意位置的精确测量‌，无需切割或取样，大幅提升检测效率。

‌高空间分辨率与精准定位‌：

配备‌高精度XYZ自动样品台‌（200 mm × 200 mm）与‌实时彩色成像系统‌，结合‌MyAutoView光斑可视技术‌，可清晰观察样品表面形貌，并将测量光斑精准定位至目标区域，避免误测。

‌宽光谱覆盖与多层分析能力‌：

光谱范围覆盖 ‌190–2100 nm‌（FUV 到 NIR），支持对‌单层、多层及梯度薄膜结构‌进行建模分析，可同时提取厚度、光学常数、表面粗糙度、界面特性等关键参数。

‌全自动化测量与Mapping功能‌：

支持‌大面积自动Mapping‌，可生成整块基板的‌厚度分布图、光学常数分布图‌等可视化结果，用于评估镀膜均匀性、工艺稳定性及缺陷定位。

‌软件驱动，智能分析‌：

由 ‌DeltaPsi2 软件平台‌ 全程控制，提供从‌测量、建模、拟合到报告输出‌的完整流程支持。软件内置丰富的材料数据库与建模模板，支持自定义复杂结构模型，适用于研发与产线双重场景。

‌非破坏性、无需真空‌：

采用‌非接触、非破坏性光学测量‌，无需样品制备或真空环境，适用于‌玻璃、硅片、柔性基底、有机薄膜‌等多种材料。

日本进口 HORIBA堀场大面积成像椭偏仪

HORIBA科学事业部提供的大面积成像椭偏仪旨在为平板显示和光伏制造提供薄膜测试解决方案。

大面积成像椭偏仪可实现面板上任意位置的测量。整个系统由DeltaPsi2软件驱动，它为常规薄膜测量提供了保障。DeltaPsi2软件提供了从测试到建模分析，输出报告，以及自动操作的全部功能控制。同时还具有数据导入/导出功能包。

HORIBA椭偏仪能够实现玻璃薄片和柔性基底上薄膜的准确测定。

大面积成像椭偏仪可以满足您的应用需求。