日本进口HORIBA堀场全息凹面光栅I型光栅
日本HORIBA（堀场）Ⅰ型全息凹面光栅‌（Holographic Concave Gratings Type 1）是一款专为高分辨率光谱仪器设计的核心光学元件，广泛应用于拉曼光谱、荧光分析、真空紫外（VUV）系统及科研级光谱仪中。

日本进口HORIBA堀场全息凹面光栅I型光栅

日本HORIBA（堀场）Ⅰ型全息凹面光栅‌（Holographic Concave Gratings Type 1）是一款专为高分辨率光谱仪器设计的核心光学元件，广泛应用于拉曼光谱、荧光分析、真空紫外（VUV）系统及科研级光谱仪中。

该光栅基于Jobin Yvon百年光学技术积淀，采用全息曝光与离子束刻蚀工艺制造，具备优异的成像性能与低杂散光特性，是构建高性能、紧凑型光谱系统的理想选择。

核心特点与技术优势

‌全息加工，低杂散光‌：

采用‌双光束激光干涉全息曝光技术‌制造光栅刻线，避免了传统机械刻划带来的周期性误差，显著降低杂散光水平（可低至<1×10⁻⁵），提升信噪比，适用于弱光检测场景。

‌球面基底，几何兼容性强‌：

光栅基底为‌球面结构‌，刻线等距且平行，其几何光学特性与常规刻划光栅相同，可直接替换使用，便于系统升级与兼容设计。

‌罗兰圆优化设计‌：

适用于‌罗兰圆（Rowland Circle）光路结构‌，入射狭缝、光栅中心与光谱成像面均位于同一圆周上，有效避免散焦与初级彗差，确保高分辨率成像。

‌像差控制与成像质量‌：

虽然球面像差在可接受范围内，但‌象散较为明显‌，因此更适合用于对分辨率要求高、但对全视场成像均匀性要求适中的应用。许多高分辨率罗兰型光谱仪采用此设计，在收集效率与分辨率之间取得平衡‌

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‌内部一体化设计能力‌：

HORIBA凭借在光学设计与光栅制造上的垂直整合能力，可从光栅设计到整机光谱仪进行一致性优化，确保系统级性能，尤其在拉曼与真空紫外系统中表现突出。

‌高复制精度与稳定性‌：

采用‌离子束刻蚀（Ion Beam Etching）技术‌进行闪耀加工，可精确控制闪耀角（即闪耀波长），实现高衍射效率，并支持大批量复制，保证产品一致性。

日本进口HORIBA堀场全息凹面光栅I型光栅

HORIBAScientific生产范围广泛的全息母版光栅，用于制造高精度复制品。型全息凹面光栅制作在球形基板上，刻线是等距和平行的。它们的几何光学特性与经典刻划光栅相同，并且可以互换。在光谱仪中使用时，|型全息凹面光栅通常排列在罗兰圆上(即由光栅中心和光栅的切线曲率半径定义的圆)

凹面母版全息光栅的复制光栅

·刻槽周期性

·与凹面刻划光栅相比，杂散光极低

·光栅优选基于罗兰圆的安装

·狭缝位于光栅曲率半径的圆上

·可以制作高分辨率光谱仪

·基材:微晶玻璃、派热克斯玻璃