日本进口 HORIBA堀场全息平面光栅
日本HORIBA（堀场）全息平面光栅‌是科研级与工业OEM领域中高精度光谱系统的‌核心分光元件‌，由其旗下HORIBA Scientific（前身为Jobin Yvon）基于超过200年的光学技术积淀研发制造。

日本进口 HORIBA堀场全息平面光栅

日本HORIBA（堀场）全息平面光栅‌是科研级与工业OEM领域中高精度光谱系统的‌核心分光元件‌，由其旗下HORIBA Scientific（前身为Jobin Yvon）基于超过200年的光学技术积淀研发制造。

该系列光栅以‌低杂散光、高衍射效率与复制稳定性‌著称，广泛应用于拉曼光谱、荧光分析、高分辨率光谱仪、同步辐射、空间探测及工业在线检测等对光学性能要求严苛的场景。

核心优势与技术特点

‌全息母版制造，周期性‌：

采用‌双光束激光干涉全息曝光技术‌制作母版光栅，确保刻线周期高度均匀，从根本上消除机械刻划带来的周期性误差与“鬼线"（ghost lines），显著降低杂散光水平（可低至<1×10⁻⁵）。

‌低杂散光，高信噪比‌：

特别适用于‌弱光信号检测‌（如拉曼、荧光）和‌高动态范围测量‌，有效提升光谱纯净度与分析准确性。

‌高复制精度与一致性‌：

基于母版光栅进行‌高精度复制‌，采用成熟的复制工艺与洁净室环境控制，确保大批量生产中每一片光栅的性能高度一致，满足OEM客户对稳定性的严苛需求。

‌多样化参数可选‌：

‌刻线密度‌：覆盖 ‌150 至 5670 gr/mm‌，支持从低分辨率宽谱段到高分辨率窄谱段的灵活配置。

‌光谱范围‌：适用于 ‌紫外（UV）至近红外（NIR）‌，部分型号可延伸至中红外（MIR）。

‌基底材料‌：可选 ‌熔融石英（Fused Silica）、Zerodur、Pyrex‌ 等，满足不同热稳定性与透光性需求。

‌镀膜类型‌：标准镀 ‌铝（Al）‌，也可选金（Au）、铂（Pt）、氟化镁（MgF₂）等，以优化特定波段的反射率与耐久性。

‌尺寸规格‌：最大可达 ‌120×140×20 mm‌，适配多种光谱仪结构。

‌先进的像差校正技术‌：

部分型号采用‌成像校正技术（Imaging CorrectionPLUS）‌，优化光路成像质量，减少像散与彗差，提升光谱成像的平坦度与分辨率。

‌严格质量控制与可追溯性‌：

产品生产符合 ‌ISO 9001 与 ISO 14001‌ 认证标准，每片光栅均具备‌激光打标可追溯性‌，确保质量全程可控。

日本进口 HORIBA堀场全息平面光栅

HORIBAScientific生产范围广泛的全息母版光栅，用于制造高精度复制品。

平面光栅是高分辨率光谱学和低杂散光应用的重要选择。

·母版全息光栅的复制光栅

·周期性和出色的显微粗糙度

·消除鬼线和低杂散光

·基材:熔融石英、微晶玻璃、派热克斯玻璃

·刻线密度:从150到5670gr/mm

·宽光谱范围:从紫外到近红外

·可用尺寸:多种标准参考尺寸，最大尺寸可达120x140x20毫米

·镀膜:铝