国内代理HORIBA堀场刻划平面光栅
HORIBA（堀场）刻划平面光栅‌是专为高衍射效率与宽光谱响应设计的科研级光学分光元件，由其旗下HORIBA Scientific（前身为Jobin Yvon）基于超过50年的光栅制造经验研发生产。

国内代理HORIBA堀场刻划平面光栅

HORIBA（堀场）刻划平面光栅‌是专为高衍射效率与宽光谱响应设计的科研级光学分光元件，由其旗下HORIBA Scientific（前身为Jobin Yvon）基于超过50年的光栅制造经验研发生产。

该系列光栅采用精密机械刻划工艺，在金属或玻璃基底上直接形成高精度沟槽结构，特别适用于‌红外（IR）波段‌及对‌高能量利用率‌有严苛要求的应用场景。

核心优势与技术特点

‌高衍射效率，强光信号输出‌：

采用‌金刚石刀具精密刻划‌技术，结合‌闪耀角优化设计‌（blazed groove profile），可在特定波长（如近红外、中红外）实现‌高达95%以上的绝对衍射效率‌，显著提升系统光通量，适用于弱光源或高分辨率光谱系统。

‌宽刻线密度范围，灵活适配‌：

刻线密度覆盖 ‌20 至 1800 grooves/mm‌，支持从低分辨率宽谱段到中高分辨率应用的灵活配置，尤其适合‌红外光谱仪、CO₂激光系统、空间探测设备‌等对沟槽间距有特殊需求的场景。

‌多样化基底与镀膜选择‌：

‌基底材料‌：可选‌不锈钢、熔融二氧化硅、金属或陶瓷‌，满足不同热稳定性与机械强度需求。

‌镀膜类型‌：标准镀‌金（Au）或铝（Al）‌，其中‌金膜在10.6 μm（CO₂激光波长）附近具有优异反射率‌，是工业激光系统的理想选择。

‌专为红外优化设计‌：

由于刻划光栅的沟槽间距相对较大，在‌红外波段‌能实现更优的‌** blaze 形状控制**‌，且缺陷尺寸相对于波长更小，因此在‌中远红外（3–15 μm）‌ 表现出比全息光栅更高的性能稳定性。

‌定制化能力强‌：

HORIBA 提供‌定制主光栅（master grating）服务‌，例如为CO₂激光器优化的‌150 l/mm 金膜光栅‌，可在‌9–11 μm波长范围内实现>95%的TM偏振绝对效率‌，满足特殊工业与科研需求。

‌高复制精度与批量稳定性‌：

基于高质量母版光栅进行‌高精度复制‌，确保大批量产品性能一致，广泛用于OEM设备集成与航天级仪器。

典型应用领域

‌工业激光系统‌：

用于‌CO₂激光器‌的波长选择与光束控制，尤其在材料加工、医疗激光中广泛应用。

‌红外光谱分析‌：

作为‌傅里叶变换红外光谱仪（FTIR）‌ 的核心分光元件，适用于化学分析、环境监测、气体检测等。

‌空间与天文探测‌：

应用于‌卫星载荷、空间望远镜‌等对可靠性要求系统，HORIBA刻划光栅已具备‌TRL9（技术成熟度9级）‌ 与‌空间飞行验证（space qualified）‌ 记录。

‌OEM集成设备‌：

集成于‌便携式光谱仪、工业过程监控系统、激光雷达（LiDAR）‌ 等，提供高能量输出与稳定性能。

‌科研级光谱系统‌：

用于‌同步辐射、自由电子激光（FEL）‌ 等前沿研究，支持从‌VNIR到SWIR波段‌的高效率分光。

国内代理HORIBA堀场刻划平面光栅

HORIBAScientific生产范围广泛的刻划母版光栅，用于制造高精度复制品。刻划反射光栅特别适用于需要高效率、高分辨率和覆盖从紫外到红外光谱范围的光谱系统。

·刻划母版光栅的复制光栅

·绝对效率高

·基材:熔融石英、微晶玻璃、派热克斯玻璃

刻线密度:从20到1800gr/mm

·宽光谱范围:从紫外到红外

·可用尺寸:多种标准参考尺寸，最大尺寸可达120x140x20毫米

·镀膜:铝