日本进口 HORIBA堀场单色仪型光栅
HORIBA（堀场）刻划平面光栅‌是专为高衍射效率与宽光谱响应设计的科研级光学分光元件，由其旗下HORIBA Scientific（前身为Jobin Yvon）基于超过50年的光栅制造经验研发生产。

日本进口 HORIBA堀场单色仪型光栅

HORIBA（堀场）刻划平面光栅‌是专为高衍射效率与宽光谱响应设计的科研级光学分光元件，由其旗下HORIBA Scientific（前身为Jobin Yvon）基于超过50年的光栅制造经验研发生产。

该系列光栅采用精密机械刻划工艺，在金属或玻璃基底上直接形成高精度沟槽结构，特别适用于‌红外（IR）波段‌及对‌高能量利用率‌有严苛要求的应用场景。

核心优势与技术特点

‌高衍射效率，强光信号输出‌：

采用‌金刚石刀具精密刻划‌技术，结合‌闪耀角优化设计‌（blazed groove profile），可在特定波长（如近红外、中红外）实现‌高达95%以上的绝对衍射效率‌，显著提升系统光通量，适用于弱光源或高分辨率光谱系统。

‌宽刻线密度范围，灵活适配‌：

刻线密度覆盖 ‌20 至 1800 grooves/mm‌，支持从低分辨率宽谱段到中高分辨率应用的灵活配置，尤其适合‌红外光谱仪、CO₂激光系统、空间探测设备‌等对沟槽间距有特殊需求的场景。

‌多样化基底与镀膜选择‌：

‌基底材料‌：可选‌不锈钢、熔融二氧化硅、金属或陶瓷‌，满足不同热稳定性与机械强度需求。

‌镀膜类型‌：标准镀‌金（Au）或铝（Al）‌，其中‌金膜在10.6 μm（CO₂激光波长）附近具有优异反射率‌，是工业激光系统的理想选择。

‌专为红外优化设计‌：

由于刻划光栅的沟槽间距相对较大，在‌红外波段‌能实现更优的‌** blaze 形状控制**‌，且缺陷尺寸相对于波长更小，因此在‌中远红外（3–15 μm）‌ 表现出比全息光栅更高的性能稳定性。

‌定制化能力强‌：

HORIBA 提供‌定制主光栅（master grating）服务‌，例如为CO₂激光器优化的‌150 l/mm 金膜光栅‌，可在‌9–11 μm波长范围内实现>95%的TM偏振绝对效率‌，满足特殊工业与科研需求。

‌高复制精度与批量稳定性‌：

基于高质量母版光栅进行‌高精度复制‌，确保大批量产品性能一致，广泛用于OEM设备集成与航天级仪器。

日本进口 HORIBA堀场单色仪型光栅

HORIBAScientific生产范围广泛的全息母版光栅，用于制造高精度复制品。

使用IV型像差校正单色仪光栅，单个凹面光栅将来自入口狭缝的光色散、准直并将其重新聚焦到出口狭缝上。通过光栅的简单旋转获得波长扫描。

这些光栅的刻槽间距经过计算机优化，即使在大数值孔径下也能产生具有最小像散和彗差的高质量图像。与Czerny-Turner单色仪(配备一个平面光栅、一个准直镜和一个聚焦镜)相比，IV型像差校正单色器光栅提供更好的光收集效率和信噪比。

·像差校正母版光栅的复制光栅

·全息母版光栅可以通过离子束蚀刻方法进行闪耀，以提高效率

·适用于坚固、紧凑和低杂散光的单色器

·多种光栅可选:目录中未列出所有可选光栅参考资料

·可提供大范围的色散

·宽光谱范围:从紫外到红外

·镀膜:铝或金