日本进口HORIBA堀场刻划闪耀反射光栅
日本HORIBA（堀场）刻划闪耀反射光栅‌是专为高衍射效率与定向光能集中设计的高性能光学分光元件，由其旗下HORIBA Scientific（前身为Jobin Yvon）基于超过50年的精密光栅制造经验研发生产。

日本进口HORIBA堀场刻划闪耀反射光栅

日本HORIBA（堀场）刻划闪耀反射光栅‌是专为高衍射效率与定向光能集中设计的高性能光学分光元件，由其旗下HORIBA Scientific（前身为Jobin Yvon）基于超过50年的精密光栅制造经验研发生产。

该系列光栅采用‌金刚石刀具机械刻划‌结合‌闪耀角优化技术‌，在特定波长区域实现绝对衍射效率，广泛应用于红外光谱、激光系统、天文探测及科研级光谱仪中。

核心优势与技术特点

‌高定向衍射效率‌：

通过精确控制沟槽的‌闪耀角‌（blaze angle），将大部分入射光能量集中到某一指定衍射级次和波长区域，在‌近红外至中红外波段‌（如1–15 μm）可实现‌>95%的绝对衍射效率‌，显著提升系统信噪比与光通量。

‌闪耀波长定制化‌：

支持根据用户需求定制‌闪耀波长‌（Blaze Wavelength），覆盖从‌紫外到远红外‌范围，尤其适用于‌CO₂激光器（10.6 μm）‌、‌傅里叶变换红外光谱（FTIR）‌ 等对特定波长高效率响应的应用场景。

‌精密机械刻划工艺‌：

采用高稳定性母版刻划机，在‌金属或玻璃基底‌上直接生成高精度沟槽结构，确保沟槽形状一致性与长期稳定性，适用于对能量利用率要求严苛的工业与科研系统。

‌多样化基底与镀膜选择‌：

‌基底材料‌：可选‌熔融石英、Zerodur、不锈钢、硅‌等，满足不同热膨胀系数与机械强度需求。

‌镀膜类型‌：标准镀‌铝（Al）‌，适用于紫外至可见光；‌金（Au）镀膜‌则在红外波段（特别是10.6 μm）具有优异反射率，是工业激光系统的。

‌宽刻线密度范围‌：

刻线密度覆盖 ‌20 至 1800 grooves/mm‌，支持从低分辨率宽谱扫描到中高分辨率定向分光的灵活配置，适配多种光谱仪与激光器光学架构。

‌高复制一致性与批量生产能力‌：

基于高质量母版进行‌高精度复制‌，结合洁净室环境与全流程质量控制，确保大批量产品性能高度一致，广泛用于OEM设备集成与航天级仪器。

日本进口HORIBA堀场刻划闪耀反射光栅

HORIBAScientific提出了用于天文的大尺寸透射全息熔融石英蚀刻(FSE)光栅或刻划闪耀反射光栅。

全息透射蚀刻光栅

VPHG光栅的理想替代品刻线密度:高达~4000gr/mm尺寸:最大500mm

基材:IR Fused Silica

基板厚度:~15mm

棱栅或平面光栅

高效率和均匀性

低偏振依赖性

高波前质量

单面增透膜

低温兼容性

刻划闪耀反射光栅

 ·母光栅或复制光栅

·刻槽密度:高达~900gr/mm

·尺寸:最大140mm

·高效率和均匀性低偏振依赖性。

·高波前质量

·长寿命金膜