DNK大日本科研国内代理无掩膜曝光装置
DNK大日本科研无掩膜曝光装置MX-1205‌ 是一款专为微机电系统（MEMS）、光电子器件、半导体研发及小批量生产设计的高精度曝光设备，适用于实验室和科研场景中的精细图案化工艺。

  DNK大日本科研国内代理无掩膜曝光装置

DNK大日本科研无掩膜曝光装置MX-1205‌ 是一款专为微机电系统（MEMS）、光电子器件、半导体研发及小批量生产设计的高精度曝光设备，适用于实验室和科研场景中的精细图案化工艺。

该设备采用‌无掩膜光刻技术‌，通过数字微镜器件（DMD）或类似空间光调制技术直接将图形投射到基板上，无需传统物理掩膜版，大幅降低研发成本并提升灵活性。其主要特点包括：

‌高分辨率成像‌：支持微米级线宽曝光，满足MEMS、传感器、微流控芯片等精密器件的制造需求。

‌多尺寸兼容性‌：可处理直径达‌Ø300mm‌的晶圆或方形基板，适应多种科研与中试材料规格。

‌曝光模式灵活‌：支持接触式、接近式及投影式曝光，可根据工艺需求选择模式，平衡分辨率与对准容差。

‌软件控制系统‌：配备专用图形生成与路径规划软件，支持CAD文件直接导入，实现快速图形编辑与曝光序列自动化。

‌应用场景广泛‌：适用于液晶聚合物、光刻胶、薄膜太阳能、柔性电子等新型材料的图案化加工。

此外，MX-1205延续了DNK系列设备在‌稳定性与易操作性‌方面的优势，整机结构紧凑，适合洁净室环境部署，维护简便，是高校、研究院所及企业研发部门进行先进微纳加工的理想选择。

  DNK大日本科研国内代理无掩膜曝光装置

利用独自的高速描画「Point Array方式」技术直接描画图形的装置。

主要特长

能够用于研究开发、试作、小批量生产等的直描曝光。

能够对应半导体、电子零件、屏幕遮罩、金属面具、PCB、高密度封装件、MEMS、FPD等的曝光。

由于在光刻工艺中不需要掩膜，因而可以最大限度地降低开发成本和缩短市场供应时间。

此外,还可以根据客户需求,提供相应的装置构造。