日本进口DNK大日本科研MEMS用曝光装置
MUM系列‌ 是专为微机电系统（MEMS）、三维微结构及厚膜光刻胶工艺研发打造的高精度曝光设备，广泛应用于半导体、传感器、微流控芯片等前沿科研与小批量生产场景。

日本进口DNK大日本科研MEMS用曝光装置

MUM系列‌ 是专为微机电系统（MEMS）、三维微结构及厚膜光刻胶工艺研发打造的高精度曝光设备，广泛应用于半导体、传感器、微流控芯片等前沿科研与小批量生产场景。

该系列设备采用创新的 ‌Moving UV Mask法‌（移动紫外掩膜技术），通过压电定位平台（Piezo Positioning Stage）在曝光过程中微幅移动掩膜，精确控制光刻胶表面的曝光能量分布，从而实现对‌三维微细构造体‌的精准成型，尤其适用于需要侧壁倾斜、曲面结构的复杂器件加工。

核心技术特点

‌三维结构成型能力‌：

可控制厚膜光刻胶（如50μm以上）的侧壁倾斜角度，支持任意曲面与倾斜结构的制造，突破传统光刻的二维限制。

‌高均匀性照射系统‌：

采用DNK自主研发的镜面与镜头光学系统，确保大面积曝光区域内的光照‌高度均匀‌，提升图案一致性与良率。

‌精密对位系统‌：

配备非接触式间隙传感器、面内均一间隙控制、多层曝光显微镜及X・Y・θ轴对位台，支持高精度多层套刻，满足复杂器件的叠层工艺需求。

日本进口DNK大日本科研MEMS用曝光装置

主要特长

 ·采用独自的镜面·镜头光学系统,实现全面均匀的照射。

·配备有可设定非接触·面内均一间隙的间隙传感器和对应多层曝光的显微镜、X·Y·0轴对位台的对位系统。

·采用Moving UV mask法(使用Piezo Positioning Stage,使掩膜在曝光中微细移动)能够控制厚膜光刻胶的侧壁倾斜角度,形成三维微细构造体。