国内代理DNK大日本科研基板用近接曝光装置
日本进口DNK大日本科研基板用近接曝光装置‌ 是专为平板显示（FPD）、触摸屏、有机EL、彩色滤光片等大规模生产设计的高精度、高速度曝光设备，广泛应用于TFT-LCD、OLED面板制造等电子产业。

国内代理DNK大日本科研基板用近接曝光装置

日本进口DNK大日本科研基板用近接曝光装置‌ 是专为平板显示（FPD）、触摸屏、有机EL、彩色滤光片等大规模生产设计的高精度、高速度曝光设备，广泛应用于TFT-LCD、OLED面板制造等电子产业。

该系列设备采用‌非接触式近接曝光技术‌，通过精密光学系统与先进对位控制，实现基板与掩膜之间的微米级间隙控制，确保图案转印的高分辨率与高良率。其核心优势在于：

一、核心技术亮点

‌高速节拍处理‌：

支持‌约20秒/片‌的曝光节拍（标准规格机，对位容许值0.5μm时，不含曝光时间），大幅提升量产效率。

‌高精度间隙控制‌：

搭载‌直读式间隙传感器‌与控制系统，可实时监测并调节掩膜与基板间的距离，实现稳定、高精度的近接曝光。

‌温控与防变形设计‌：

可选配‌温控机房‌、‌基板台温度调控系统‌及‌掩膜冷却系统‌，有效抑制因温差导致的基板或掩膜热伸缩，保障尺寸稳定性。

本体与光源分离设计，减少热传导，提升整机热分布均匀性。

国内代理DNK大日本科研基板用近接曝光装置

主要特长

·能够进行节拍时间约20秒(标准规格机，对位容许值设定为0.5um时。不含曝光时间。)的高速曝光处理。

·利用直读式间隙传感器与独自的控制系统,能够高速度和高精度地设定掩膜与基板间的近接间隙。

·可配置严格控制处理部位温度环境的温控机房。为了防止因热而引起的基板伸缩,还可选用基板台温度调控系统。

·可选择配置基板台温度控制系统及掩膜冷却系统，以防止掩膜及玻璃基板因温度差而引起的伸缩。(选购项)

·能够装载存放5张掩膜的掩膜存放库