进口DNK大日本科研直立型近接曝光装置
大日本科研（DNK）MA-6131ML直立型近接曝光装置‌是一款专为超大尺寸显示基板设计的高精度曝光设备，广泛应用于PDP、液晶面板、触摸屏、彩色滤光片、有机EL及电子纸等显示制造领域。

  进口DNK大日本科研直立型近接曝光装置

大日本科研（DNK）MA-6131ML直立型近接曝光装置‌是一款专为超大尺寸显示基板设计的高精度曝光设备，广泛应用于PDP、液晶面板、触摸屏、彩色滤光片、有机EL及电子纸等显示制造领域。

该设备采用‌垂直式结构‌，将掩模与基板竖直放置，有效避免因自重导致的弯曲变形，无需额外校正，显著提升了装置的稳定性与对位精度。主机与光源单元分离，防止热量传导至主体，优化内部热分布，确保长时间运行的曝光一致性。

核心参数与技术优势：

‌基板尺寸‌：最大支持 ‌1100 × 1300 mm‌，适用于G3～G5级大型基板

‌掩模尺寸‌：1200 × 1400 × t4.8 mm，兼容大尺寸掩模

‌光源系统‌：配备18千瓦超高压汞灯，提供高强度、均匀的曝光能量

‌对位方式‌：非接触预对位 → 自动对位（具备感应功能），实现高速高精度对准

‌光学系统‌：采用低倾斜角设计，使影响图案转印精度的二偏角小于常规值的一半，大幅提升转印准确度

‌无尘设计‌：基于CF用曝光装置的高标准无尘经验，优化气流与驱动部件布局，减少微粒子产生

‌可选配置‌：

掩模冷却系统

基板台温度控制

热室

特殊对准照明

‌自动化集成‌：支持内嵌水平输送式前后处理设备，便于接入全自动生产线

‌掩模存储‌：可安装5槽掩模库，提升换模效率与产线连续性

应用场景：

MA-6131ML特别适用于需‌大面积一次性均匀曝光‌的工艺，如：

PDP（等离子显示面板）大基板的均一曝光

高世代液晶面板彩色滤光片制造

OLED与新型显示器件的高精度图形转印

其独特的垂直构造与热管理设计，使其在高精度、高稳定性要求的量产环境中表现出色，是显示制造产线中的关键设备之一。

  进口DNK大日本科研直立型近接曝光装置

主要特长

·直立配置掩膜台/基板台。不需补正由掩膜/掩膜台/基板台的自身重量而造成的穹曲变形构造简单，安定性高。

·采用新型光学系统,使影响图形转印精度的倾斜角降低至过去的一半以下(与本公司装置相比,可实现更高精度的图形转印。

·分离本体与光源部。光源的热量传递不到本体,改善了本体部的热量分布水准。

·为了防止因掩膜及玻璃基板的温度差造成的伸缩变形,可选择基板台温度控制系统及掩膜冷却系统。(选购项)

·最大基板尺寸为1,200mmx1,400mm。通过独自的光学系统实现了均匀的一次性曝光。

·能够装载存放5张掩膜的掩膜存放库