代理DNK大日本科研直立型近接曝光装置
大日本科研（DNK）MA-6801ML直立型近接曝光装置‌是一款专为G3～G5级大尺寸显示基板设计的高精度、高速度曝光设备，广泛应用于触摸屏、彩色滤光片、有机EL、C-STN及电子纸等先进显示技术的量产工艺中。

代理DNK大日本科研直立型近接曝光装置

大日本科研（DNK）MA-6801ML直立型近接曝光装置‌是一款专为G3～G5级大尺寸显示基板设计的高精度、高速度曝光设备，广泛应用于触摸屏、彩色滤光片、有机EL、C-STN及电子纸等先进显示技术的量产工艺中。

该设备采用‌垂直式结构设计‌，将掩模与基板竖直放置，有效减少因自重引起的弯曲变形，无需额外进行偏转校正，从而实现更稳定、更简单的装置运行。主机与光源单元分离，避免光源热量传导至主体，显著改善设备内部热分布，提升曝光稳定性与重复精度。

核心参数与技术优势：

‌基板尺寸‌：最大支持 ‌650 × 750 mm‌，适用于G3～G5级基板

‌掩模尺寸‌：700 × 800 × t8.0 mm，兼容大尺寸掩模

‌光源类型‌：8千瓦超高压汞灯，提供高强度、均匀的曝光能量

‌对位方式‌：非接触预对位 → 自动对位（具备感应功能），实现高速高精度对准

‌节拍时间‌：约 ‌20秒‌（不含曝光时间），适合高速量产

‌光学系统‌：采用新型低倾斜角设计，使影响图案转印精度的二偏角小于常规值的一半，大幅提升转印准确度

‌可选配置‌：

掩模冷却系统

基板台温度控制系统

热室

特殊对准照明

‌自动化集成‌：支持内嵌水平输送式前后处理设备，便于接入全自动生产线

‌掩模存储‌：可安装5槽掩模库，提升换模效率与产线连续性

应用场景：

MA-6801ML特别适用于需‌大面积一次性均匀曝光‌的高精度工艺，如：

液晶显示器（LCD）彩色滤光片制造

有机发光二极管（OLED）面板生产

触摸屏与电子纸等新型显示器件的图形转印

其独特的垂直构造与热管理设计，使其在高精度、高稳定性要求的量产环境中表现出色，是显示制造产线中的关键设备之一。

代理DNK大日本科研直立型近接曝光装置

主要特长

·直立配置掩膜台/基板台。不需补正由掩膜/掩膜台/基板台的自身重量而造成的弯曲变形构造简单，安定性高。

·采用新型光学系统,使影响图形转印精度的倾斜角降低至过去的一半以下(与本公司装置相比,可实现更高精度的图形转印。

·分离本体与光源部。光源的热量传递不到本体,改善了本体部的热量分布水准。

·为了防止因掩膜及玻璃基板的温度差造成的伸缩变形,可选择基板台温度控制系统及掩膜冷却系统。(选购项)

·最大基板尺寸为1,200mmx1,400mm。通过独自的光学系统实现了均匀的一次性曝光。

 ·能够装载存放5张掩膜的掩膜存放库。