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日本Otsuka大塚膜厚仪嵌入型显微微分光
产品简介:

日本Otsuka大塚膜厚仪嵌入型显微微分光
利用显微微分光膜厚计OPTM series的高精度、微小光点,在线提供制作晶片图案后的微小区域测量等膜厚信息。

产品型号:OPTM-H1

更新时间:2026-05-20

厂商性质:代理商

访问量:11

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产品介绍

日本Otsuka大塚膜厚仪嵌入型显微微分光

利用显微微分光膜厚计OPTM series的高精度、微小光点,在线提供制作晶片图案后的微小区域测量等膜厚信息。

特 点

● 膜厚测量范围1nm~92μm(换算为SiO2)

● 膜厚值高重复精度

● 1点1秒以内的高速测量

● 最小小点Φ3μm)中瞄准模式

● 适合图案晶片的膜厚映射

● 能够取得图案对准用图像

装置组装示意图

日本Otsuka大塚膜厚仪嵌入型显微微分光

测量数据示意图

日本Otsuka大塚膜厚仪嵌入型显微微分光

测量光点周边图像

日本Otsuka大塚膜厚仪嵌入型显微微分光

适应过程示例

CMP工艺

蚀刻工艺

成膜工艺等

日本Otsuka大塚膜厚仪嵌入型显微微分光

核心功能‌

非接触式膜厚测量:可对透明、半透明及部分不透明薄膜进行精准检测,测量范围覆盖从几纳米到数百微米,能适配光学镀膜、半导体薄膜、光伏薄膜等多种不同材质薄膜的检测需求。

多参数分析:除了膜厚,还可同步分析薄膜的折射率、消光系数等光学参数,为薄膜材料的性能研究和质量控制提供全面数据。

‌技术优势‌

高精度与高分辨率:采用高精度分光光谱技术,膜厚测量精度可达0.1nm,空间分辨率可实现微米级,能精准捕捉薄膜厚度的细微变化和局部差异。

高效检测:搭载快速光谱采集系统,单次测量仅需数秒,支持批量样品自动检测,大幅提升检测效率。

智能化操作:配备直观的图形化操作界面,内置多种样品适配模式,无需复杂的专业知识即可上手操作,同时支持数据的自动存储、分析和导出。

‌应用领域‌

半导体行业:用于芯片制造中光刻胶、金属阻挡层、介质薄膜等的厚度检测,保障芯片制程的精度和良率。

光学领域:检测眼镜片、光学镜头、滤光片等光学元件的镀膜厚度和均匀性,提升光学产品的成像质量和使用寿命。

光伏行业:对太阳能电池片的减反射膜、抗反射膜等薄膜厚度进行精准测量,优化电池片的光电转换效率。

纳米材料研发:辅助纳米薄膜材料的研发,为材料的结构设计和性能优化提供数据支撑。


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