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HAMAMATSU/滨松8×8像元硅光电二极管阵列
产品简介:

HAMAMATSU/滨松8×8像元硅光电二极管阵列
HAMAMATSU 滨松光子,全称滨松光子学株式会社(Hamamatsu Photonics K.K.),日本全球顶尖光子科技企业,1953 年创立,总部静冈县滨松市,是光电子、射线检测、激光设备领域龙头厂商,核心产品线,光电倍增管 PMT,光半导体器件,X 射线 / 射线发生装置,激光器与光学仪器,整机检测设备。

产品型号:S13620

更新时间:2026-07-15

厂商性质:代理商

访问量:15

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产品介绍

HAMAMATSU/滨松8×8像元硅光电二极管阵列

HAMAMATSU 滨松光子,全称滨松光子学株式会社(Hamamatsu Photonics K.K.),日本全球顶尖光子科技企业,1953 年创立,总部静冈县滨松市,是光电子、射线检测、激光设备领域龙头厂商,核心产品线,光电倍增管 PMT,光半导体器件,X 射线 / 射线发生装置,激光器与光学仪器,整机检测设备。

适用于非破坏性 X 射线检查的背照式光电二极管阵列,适合平铺结构

S13620-02 是一款 8 × 8 像元硅光电二极管阵列,具有背照式结构,用于 X 射线非破坏性检测。背照式光电二极管阵列易于处理,因为入射表面没有焊线或受光面。您可以安装闪烁体,而无需担心损坏配线。此外,产品周围设计有最小的死区,以便并排排列多个产品。通道之间没有串扰。

特点

-二维(8 × 8 像元)阵列

-光谱响应范围:400 至 1100 nm

-封装尺寸:24 (W) × 24 (H) mm

-像元间距:3.0 mm × 64 像元

-易于与闪烁体耦合

  因为受光面没有配线,并且与闪烁体的光学耦合效率可以大化,因此适用于非破坏性 X 射线检查设备。

HAMAMATSU/滨松8×8像元硅光电二极管阵列

详细参数:

像元尺寸(每个像元)2.5 × 2.5 mm
像元数64
封装玻璃环氧树脂
封装类别未密封
闪烁体类型
制冷非冷却型
反向电压(最大值)10 V
灵敏度波长范围400 至 1100 nm
最大灵敏度波长(典型值)960 nm
感光灵敏度(典型值)0.61 A/W
暗电流(最大值)300 pA
上升时间(典型值)15 μs
结电容(典型值)60 pF
备注这些产品也可作为闪烁体安装产品(定制产品)提供,如 CsI (Tl)、磷光片、GOS 和 CWO。请就近咨询滨松销售办事处。
测量条件Ta = 25°C,每个像元,感光灵敏度:λ = 920 nm















































外形尺寸图:
HAMAMATSU/滨松8×8像元硅光电二极管阵列

HAMAMATSU/滨松8×8像元硅光电二极管阵列

一、产品定位

S13620-02 是滨松8×8 二维 64 通道背照式硅光电二极管阵列,区别于 S11212/S11299/S12362 一维线阵,为面型探测器件,主打 X 射线二维成像、平面光束检测;背照凸点键合结构,入射面无引线,可直接贴合闪烁体用于 X 光无损检测,裸片可做可见光二维光场测量。

二、核心几何规格

  1. 像元排布:8 行 ×8 列,总计 64 个独立 PD 通道

  2. 单像元整体尺寸:2.8 mm × 2.8 mm;有效感光面积:2.5 mm × 2.5 mm

  3. 像元中心间距:3.0 mm

  4. 整体封装尺寸:24 mm × 24 mm 方形玻璃环氧树脂封装

  5. 结构工艺:背照式,感光入射侧无键合金丝,贴合闪烁体不会损伤引线,耦合效率高;器件四周死区极小,多片可无缝拼接扩展二维探测面

三、光学 & 电气标准参数(25℃)

  1. 光谱响应范围:400 ~ 1100 nm(无深紫外响应)

  2. 峰值响应波长:960 nm,典型光敏度 0.61 A/W

  3. 极限反向耐压:10 V

  4. 单像元最大暗电流:300 pA

  5. 典型结电容:60 pF,上升时间 15 μs

  6. 工作温度:-20℃ ~ +60℃(无凝露环境)

  7. 出厂标配:无预贴闪烁体裸片,型号仅 S13620-02 一款,需自行搭配 CsI/GOS 等闪烁体实现 X 光探测

四、核心产品特性

  1. 二维 8×8 面阵设计:可直接获取平面光强分布,一维线阵仅能采集单条线性信号

  2. 背照无引线结构:闪烁体贴合简单,工业震动环境不易损坏,X 光转换均匀度高

  3. 低通道串扰隔离工艺,64 通道信号独立输出,成像无相邻像素信号干扰

  4. 模块化拼接能力:多块方形阵列并排,可做大尺寸二维 X 光成像面板

  5. 单像元感光面积大,弱 X 射线 / 弱可见光下信噪比表现优秀

五、典型应用场景

  1. X 射线二维无损检测:小件工件平面探伤、锂电池方形极片缺陷成像、小型安检成像模组

  2. 光学测量:激光光束二维轮廓分析、光斑能量分布检测、多通道平面测光

  3. 科研光学实验:二维光场分布、荧光平面成像采集


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