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产品型号：MS-B100
更新时间：2026-09-02
厂商性质：代理商
访问量：16
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产品分类
美萨代理MIKASA米卡萨旋转涂布机SpinCoater
美萨代理MIKASA米卡萨旋转涂布机SpinCoater 
MIKASA的旋轉控制系統不但可以達到5,000rpm以上的高速旋轉，且旋轉數精度全實現了 ±1rpm的高精度
可任意設定旋轉數(0~5,000rpm)和到達旋轉數的時間(0.2sec~999.9sec)，因此可輕易地控制膜厚。
可追加滴下裝置(MS-A150/MS-A200)
採用AC伺服電動機
● 無刷式，不會造成無塵室汚染。
● 減少電動機發熱，也減少因連續使用時的温度上昇造成對膜厚再現性的影響。
● 電力消費低，減低環境的負擔。
■ 擴張程式功能
● 最多有100階段程式、可記憶10種模式，更容易使用。
■ 所有機型皆標準配備數位式真空計
■ 方形基板等可設定停止時位置，超方便
■ 安全裝置機構(真空壓及蓋子)
● 由於薄膜或晶圓容易破裂，而降低吸附壓力時，可以變更安全裝置機構（真空）的稼動壓力。
最大支持基板尺寸：可兼容4英寸晶圆，也支持75mm方形基板
·转速调节范围：20~8000rpm，覆盖常规光刻胶旋涂的全转速区间
·旋转精度：±1rpm（带负载状态下)，转速控制精度高，保障成膜均匀性
·程序控制能力：支持最多100步程序编辑，可存储10组不同的旋涂工艺配方
·特色功能：自带转速升/降速斜率调节，支持停止位置自定义设定，适配方形基板等特殊工件的旋涂需求
·配套结构：标配锅盖式亚克力透明上盖，操作直观安全
·适配真空源：要求外接真空源压力范国为-0.08~-0.1MPa
·供电规格：AC100~240V宽幅自适应供电，50/60Hz通用，整机功耗5A
·外形尺寸：260mm(宽）×230mm（高)×330mm（深)
·旋涂腔室内径：φ220mm，可容纳较大尺寸的旋涂工件
·整机重量：仅12kg，机身小巧便于实验室台面摆放移位
三、典型适用场景
·半导体实验室的光刻胶精密旋涂工艺
·材料科研领域的溶胶-凝胶法薄膜制备
·高校、科研院所的微纳加工相关实验教学
·小批量精密光学薄膜试样的制备场景
