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产品型号：AD‑1200
更新时间：2026-09-02
厂商性质：代理商
访问量：29
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产品分类
美萨MIKASA米卡萨旋转显影机Spin Developer
美萨MIKASA米卡萨旋转显影机Spin Developer
双工艺模式：水坑显影 Puddle + 摆动喷淋 Spray
Puddle 水坑显影：基板低速旋转，药液静置积在基板表面，显影均匀，适合薄胶、高精度图形，线宽均匀性好，药液消耗量低。
Swing‑spray 摆动喷淋显影：喷嘴左右摆动喷淋冲洗，适合厚胶、快速显影、去除显影残渣；两种模式同一台设备程序切换，研发打样适配多种光刻胶工艺。
伺服旋转平台，启停冲击小，薄基板友好转速 0‑3000rpm 伺服驱动，加减速曲线可编程；低速水坑模式旋转平稳，薄硅片、薄玻璃不易翘曲碎裂；高速可做冲洗、甩干工序，显影‑冲洗‑甩干完整流程一台完成。
多组药液供给，配方可存储复用
可扩展最多3 路独立药液管路，切换不同显影液、冲洗液；
程序：最多 96 工艺步骤，存储10 组完整工艺配方；触屏 LCD 操作；工艺固化，消除人为操作差异，实验可复现，支持步骤跳过、程序复制。
耐化学腐蚀腔体，适配黄光洁净台腔体耐腐蚀特氟龙处理，抗显影液、有机溶剂腐蚀；整机小巧台式，重量仅33kg，可以直接放置在洁净台内部，不占用厂房大空间，高校、研发实验室标配机型。
安全联锁舱盖开盖联锁，开盖旋转立刻停止；真空吸附确认传感器，真空不足报警，防止基板飞片；废液收集结构，废液集中排出，维护简单。
丰富选件扩展
可更换真空吸盘，适配 2‑6 英寸硅片、方形基板；
可选压力罐药液供给；可接入 CDA 压缩空气或氮气；
可对接同厂 MA 系列接触式光刻机，整套黄光工艺设备配套。
