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产品型号
MA-1400 -
厂商性质
其他 -
更新时间
2026-04-17 -
浏览次数
274
产品描述
进口DNK大日本科研实验研究用曝光装置 DNK大日本科研(大日本科研株式会社)是日本精密光刻设备制造商,专注于为半导体、FPD(平板显示)、MEMS、有机EL、触摸屏等领域提供高精度曝光解决方案。其实验与研究用曝光装置系列,以高稳定性、灵活配置和紧凑设计著称,广泛应用于高校、科研院所及企业研发部门。
产品分类
产品型号
MA-1400厂商性质
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2026-04-17浏览次数
274产品描述
进口DNK大日本科研实验研究用曝光装置 DNK大日本科研(大日本科研株式会社)是日本精密光刻设备制造商,专注于为半导体、FPD(平板显示)、MEMS、有机EL、触摸屏等领域提供高精度曝光解决方案。其实验与研究用曝光装置系列,以高稳定性、灵活配置和紧凑设计著称,广泛应用于高校、科研院所及企业研发部门。
产品型号
MA-1300厂商性质
其他更新时间
2026-04-17浏览次数
323产品描述
DNK大日本科研国内代理研究用曝光装置 DNK大日本科研(大日本科研株式会社)是日本精密光刻设备制造商,专注于为半导体、FPD(平板显示)、MEMS、有机EL、触摸屏等领域提供高精度曝光解决方案。其实验与研究用曝光装置系列,以高稳定性、灵活配置和紧凑设计著称,广泛应用于高校、科研院所及企业研发部门。
产品型号
MA-1200厂商性质
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2026-04-17浏览次数
320产品描述
国内代理 DNK大日本科研研究用曝光装置 DNK大日本科研(大日本科研株式会社)是日本精密光刻设备制造商,专注于为半导体、FPD(平板显示)、MEMS、有机EL、触摸屏等领域提供高精度曝光解决方案。其实验与研究用曝光装置系列,以高稳定性、灵活配置和紧凑设计著称,广泛应用于高校、科研院所及企业研发部门。
产品型号
Roll to Roll厂商性质
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2026-04-16浏览次数
310产品描述
日本进口DNK大日本科研胶片用曝光装置 是一款专为实验与研究场景设计的高精度手动曝光设备,适用于玻璃、晶圆、胶片等多种基材,是小批量生产与研发的理想选择。
产品型号
(450×600mm厂商性质
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2026-04-16浏览次数
338产品描述
DNK大日本科研桌面遮罩对齐器曝光机 DNK大日本科研桌面遮罩对齐器(即Desktop Mask Aligner)是一款专为实验与研发场景设计的紧凑型光刻对准设备,适用于小尺寸晶圆(最大Ø4″)和掩膜版的接触式曝光工艺。