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产品型号
MA-4301M -
厂商性质
其他 -
更新时间
2026-04-15 -
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299
产品描述
进口DNK大日本科研Ø200mm 兼容曝光机 进口DNK大日本科研化合物半导体用Ø200mm曝光机是专为高精度光刻工艺设计的关键设备，广泛应用于LED、激光二极管（LD）、功率器件等化合物半导体的研发与小批量生产，支持Φ200mm（8英寸）晶圆的高效图形转移。
13915577898
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产品分类
产品型号
MA-4301M厂商性质
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2026-04-15浏览次数
299产品描述
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MA-4000厂商性质
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2026-04-15浏览次数
281产品描述
DNK大日本科研化合物半导体用曝光装置 MA-4000是一款专为高精度光刻工艺设计的立式接近式曝光设备，广泛应用于LED、激光二极管、功率器件等化合物半导体的研发与中试生产。
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MA-1300厂商性质
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2026-04-15浏览次数
228产品描述
日本进口DNK大日本科研实验研究用曝光装置 日本进口DNK大日本科研研究用曝光装置MA-1400 是一款专为实验与研究场景设计的手动式整面单次曝光设备，适用于玻璃、晶圆、胶片等基材的光刻工艺，特别适合小批量生产与高混合度研发需求。
产品型号
MA-1200厂商性质
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2026-04-15浏览次数
251产品描述
日本进口DNK大日本科研研究用曝光装置 MA-1200是一款专为实验与研究场景设计的手动式整面单次曝光设备，适用于玻璃、晶圆、胶片等基材的光刻工艺，是小批量生产与高混合研发的理想选择。
产品型号
XC-500AFSS厂商性质
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2026-04-15浏览次数
265产品描述
国内代理SERIC佐理克人工太阳照明灯聚光型 日本SERIC佐理克XC-500EFSS超级聚焦型人工太阳照明灯是一款专为高精度光照模拟设计的工业级设备，能够稳定再现盛夏正午太阳光的辐照强度（1 SUN = 1000 W/m²），广泛应用于研发与产品可靠性测试领域。