MIKASA株式会社上海曝光机日本米卡萨MIKASA株式会社中国现货代理日本MIKASA株式会社中国代理: MIKASA光刻机。旋转涂布机，真空泵日本MIKASA株式会社中国代理: MIKASA光刻机. 旋转涂布机，真空泵日本MIKASA株式会社中国代里: MIKASA光刻机.旋转涂布机，真空泵日本MIKASA株式会社中国代理: MIKASA光刻机.旋转涂布机，真空泵

日本MIKASA株式会社米卡萨中国现货代理
日本MIKASA株式会社米卡萨中国现货代理
日本米卡萨MIKASA株式会社中国现货代理日本MIKASA株式会社中国代理: MIKASA光刻机。旋转涂布机，真空泵日本MIKASA株式会社中国代理: MIKASA光刻机. 旋转涂布机，真空泵日本MIKASA株式会社中国代里: MIKASA光刻机.旋转涂布机，真空泵日本MIKASA株式会社中国代理: MIKASA光刻机.旋转涂布机，真空泵

半导体制造工序中的Mikass半导体设备

为半导体制造工序提供支持的Mikasa
备齐光刻胶涂布、曝光、显影、蚀刻等半导体制造前段工序所需要的装置后，提供一站式服务。另外，为旋转涂膜仪的所有机型准备了替代用机，可在发生故障时尽早应对，且在销售后提供快捷周到的售后服务。针对研究过程中所发生的一系列问题，也可在现场提出解决建议。与客户共同探讨在哪个工序出现了问题、应如何改进等等，从而得出解决建议。Mikasa 作为一个可在半导体方面进行共同商谈的咨询顾问，不仅销售设备，而是为客户半导体制造的整体工艺流程
晶圆→洗涤（清除晶圆表面的脏污及各种金属离子）→成膜（在高温扩散炉中，形成表面氧化膜）→光刻胶涂布（将光刻胶（感光材料）涂抹到晶圆表面，形成厚度均一的薄膜）→曝光（将光掩膜与晶圆重合，复制电路图案）→显影（去除曝光部位（正胶）的光刻胶）→蚀刻（通过腐蚀氧化膜来蚀刻电路）

日本MIKASA旋转涂膜仪SpinCoater.

光刻胶涂布/将光刻胶(感光材料)涂抹到晶园表面，形成厚度均一-的薄膜。旋转涂膜仪

滴液装置可选组件 吸盘

●MS-B100/ MS-B150

●MS-B200

●MS-B300

●MS-B200 (密闭型)

●MS-B300 (密闭型)

日本MIKASA光刻机

●MA-10

●MA-20

●MA-60F

●M-2LF

●M-1S

日本MIKASA曝光，将光掩膜与晶园重合，复制电路图案。

日本MIKASA显影、蚀刻装置DeveloperEtching

去除曝光部位(正胶)的光刻胶。
●AD-1200

●AD-3000

●PD-1000

日本MIKASA蚀刻装置

蚀刻装置

●ED-1200

●ED-3000

日本MIKASA旋转涂布机MS-150
MIKASA 旋转涂布机 MS-A150/MS-B150 现货
代理MIKASA旋转涂布机SpinCoater MS-B200
日本MIKASA旋转涂布机MS-A150/MS-B150 现货
为半导体制造工序提供支持的Mikasa
备齐光刻胶涂布、曝光、显影、蚀刻等半导体制造前段工序所需要的装置后，提供一站式服务。另外，为旋转涂膜仪的所有机型准备了替代用机，可在发生故障时尽早应对，且在销售后提供快捷周到的售后服务。针对研究过程中所发生的一系列问题，也可在现场提出解决建议。与客户共同探讨在哪个工序出现了问题、应如何改进等等，从而得出解决建议。Mikasa 作为一个可在半导体方面进行共同商谈的咨询顾问，不仅销售设备，而是为客户半导体制造的整体工艺流程给出支持。