Otsuka大塚膜厚仪纳米粒子径测试系统
nanoSAQLA是一台通过动态光散乱法（DLS法）测量粒径（粒径0.6nm~10um）的装置。支持从稀薄到浓厚系广泛浓度范围内的多检体测定的新光学系统，实现了实验室必需的轻量、小型化、标准1分钟的高速测定。 另外，这是一款非浸泡型、不受接触器影响、无需自动取样器、标准配备“5检体连续测量"的新产品。...

Otsuka大塚膜厚仪纳米粒子径测试系统

nanoSAQLA是一台通过动态光散乱法（DLS法）测量粒径（粒径0.6nm~10um）的装置。支持从稀薄到浓厚系广泛浓度范围内的多检体测定的新光学系统，实现了实验室必需的轻量、小型化、标准1分钟的高速测定。 另外，这是一款非浸泡型、不受接触器影响、无需自动取样器、标准配备“5检体连续测量"的新产品。...

特点

● 1台便可实再5个样品的连续测量

实现了在没有自动取样器的情况下难以连续测量的多个样品

可以改变每个样品的条件进行测量

● 可以对应从稀薄到浓厚的样品

● 标准测量时间1分的高度测量

自动调整从浓厚系到稀薄系样品的最佳测量位置，实现约1分钟的高速测量

● 配备简单测量功能(点击一键即可开始测量)

没有任何复杂的操作，简单易懂的软件

● 因为每个样品槽都是独立的，没有接触污染的风险。

● 搭载温度梯度功能

测量范围（理论值）

● 粒径0.6nm～10μm

● 浓度范围 0.00001～40％

● 温度范围0～90℃*

Otsuka大塚膜厚仪纳米粒子径测试系统

核心功能‌

‌膜厚测量‌：支持透明、半透明及不透明薄膜的非接触式检测，测量范围覆盖几纳米至几十微米，通过多波长光源适配光学镀膜、半导体薄膜等不同材质的检测需求。

‌粒径分析‌：基于动态光散射等技术，可精准测量1-1000nm范围内的纳米颗粒粒径分布，无需复杂样品制备，可直接对液体、粉末、片状等多种形态样品检测。

‌技术优势‌

精度：膜厚测量精度可达0.1nm，粒径测量重复性误差低至1%以内，满足高精度科研与工业检测需求。

高效便捷：单次测量仅需几秒到几十秒，操作界面简洁，大幅缩短检测周期。

多场景适配：配备多样化样品台，兼容不同形态样品，适配多行业检测需求。

‌应用领域‌

半导体行业：用于芯片制造中光刻胶、金属薄膜等的厚度检测，保障制程精度。

纳米材料研发：分析纳米颗粒、量子点等材料的粒径与分散性，助力材料性能优化。

光学镀膜领域：检测眼镜片、光学镜头等镀膜的厚度与均匀性，提升光学产品性能。

生物医药领域：测量纳米药物载体的粒径，为药物研发与质量控制提供数据支撑。