Otsuka大塚膜厚仪多样品nano粒子径测量系统
Otsuka大塚的nanoSAQLA AS50是专为纳米级样品设计的膜厚仪与粒径测量系统，主要用于精准检测薄膜厚度及纳米颗粒粒径

Otsuka大塚膜厚仪多样品nano粒子径测量系统

Otsuka大塚的nanoSAQLA AS50是专为纳米级样品设计的膜厚仪与粒径测量系统，主要用于精准检测薄膜厚度及纳米颗粒粒径

特点

● 1个单元可轻松连续测量5个样品。

● 实现了在没有自动进样器的情况下难以实现的多个样品的连续测量，也可以通过改变每个样品的条件进行测量。

● 标准测量时间为1分钟的高速测量，通过自动调整从浓缩样品到稀释样品的最佳测量位置，实现约1分钟的高速测量。

● 配备简易测量功能（一键开始测量）软件，简单易懂，无需任何复杂操作。

● 内置非浸入式电池块，无需分装，无污染，每个电池都是独立的，无需担心污染。

● 配备温度梯度功能，温度设定容易。

AS50的特点

● 最多连续测定50个样品

● 可对应有机溶媒 玻璃一次性比色皿

● 样本容量最小0.4ml

● 测定过程中追加样品

● 高速测定1分

● 样品设定简单.便利 一次性最多可放入50个样品

测量范围（理论值）

粒径 0.6nm 至 10μm

浓度范围 0.00001-40%

温度范围 0-90°C *

Otsuka大塚膜厚仪多样品nano粒子径测量系统

核心功能‌

膜厚测量：可对透明、半透明及不透明薄膜进行非接触式测量，覆盖范围从几纳米到几十微米，支持多波长光源，能适配不同材质薄膜的测量需求，比如光学镀膜、半导体薄膜等。

粒径分析：针对纳米级颗粒，通过动态光散射等原理，可精准测量1-1000nm范围内的颗粒粒径分布，适用于纳米材料研发、质量控制等场景。

‌技术优势‌

高精度：采用先进的光学干涉和光散射技术，膜厚测量精度可达0.1nm，粒径测量重复性误差低至1%以内。

高效便捷：具备快速扫描功能，单次测量仅需几秒到几十秒，且操作界面简洁，无需复杂样品制备，可直接对液体、固体样品进行检测。

多样品适配：配备多种样品台，可兼容片状、粉末、液体等多种形态的样品，满足不同行业的多样化检测需求。

‌应用领域‌

半导体行业：用于芯片制造过程中光刻胶、金属薄膜等的厚度检测，保障芯片制程精度。

纳米材料研发：对纳米颗粒、量子点等材料的粒径和分散性进行分析，助力材料性能优化。

光学镀膜领域：检测眼镜片、光学镜头等镀膜的厚度和均匀性，提升光学产品性能。

生物医药领域：可测量纳米药物载体的粒径，为药物研发和质量控制提供数据支持。