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产品型号：LCF series
更新时间：2026-05-18
厂商性质：代理商
访问量：14
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产品分类
产品信息 特点 以透过光谱测量、色测量为代表，通过浓度测量、膜厚测量、反射光谱测量等，可对应彩色滤光片制造工程中的所有检查的装置 可用于彩色滤光片的光学特性或玻璃基板...
特点
以透过光谱测量、色测量为代表，通过浓度测量、膜厚测量、反射光谱测量等，可对应彩色滤光片制造工程中的所有检查的装置
可用于彩色滤光片的光学特性或玻璃基板上膜的薄膜解析等各类评价
通过自动对焦功能和自动绘素位置相结合，测量精度高，登陆recipe实现自动检查
核心功能与特点
高精度光刻胶膜厚检测
基于彩色光干涉技术，可实现0.1nm级精度的光刻胶膜厚测量，支持单层、多层光刻胶的厚度解析，适配KrF、ArF、EUV等各类光刻工艺对应的光刻胶。
搭载高分辨率成像系统，可同步获取光刻胶表面的微观形貌与膜厚数据，将两者对应关联，为光刻胶质量分析提供更全面的依据。
适配光刻生产的高效操作
配备光刻胶专用载台，支持2英寸至12英寸全规格晶圆的快速装夹，内置光刻胶识别与定位算法，能自动匹配测量路径，大幅提升批量检测效率。
操作界面针对光刻检测场景优化，支持一键式启动批量测量，测量数据可直接导出为半导体行业通用格式，便于接入生产管理系统。
稳定适配半导体严苛环境
机身采用半导体洁净室适配的防尘防静电材质，配备温湿度补偿系统，可有效抵消洁净室内的微小环境波动，长时间保持数据一致性。
具备抗振动干扰结构，能适应半导体生产线的轻度振动环境，保障检测数据的可靠性。
适用场景
半导体晶圆制造：在晶圆前道光刻工艺中，用于检测光刻胶的厚度均匀性、缺陷检测等，保障光刻制程的稳定性，提升芯片良率。
半导体科研实验：为新型光刻胶材料研究、先进光刻制程开发提供精准的膜厚数据支撑，助力前沿技术的落地。
光刻胶代工质检：在光刻胶代工厂的质检环节，对来料光刻胶、制程中光刻胶及成品光刻胶进行膜厚抽检，确保产品符合客户规格要求。
