东机产业tokisangyo.（トキサンギョウ），日本专业旋转粘度计厂商，1953年开始生产粘度计，符合JIS‑K7117、ISO标准，广泛用于涂料油墨、医药、化妆品、电子浆料、锂电池浆料、高分子、食品行业，分圆筒B型、锥板E型、便携式、高级多功能系列四大产品线tokisangyo...B型（圆筒转子，Spindle）：浸入式转子，需要几十毫升样品；通用性，QC来料、出厂检测主流。E型（锥板/円すい‑平板）：微量样品，仅1ml左右；剪切速率可控，流变测试、昂贵样品、研发，需要...

KOSAKA真圆度仪|圆柱度测定机型号：EC1550H超微测量力0.5μN：可以直接测量光刻胶、PI聚酰亚胺等软质薄膜，不会压坏样品表面，这是小坂ET系列一大强项ryokosha.c...。直动式检出器：探针垂直直线运动，消除传统杠杆式摆动带来的角度系统误差，纳米台阶测量更稳定。CCD可视定位：肉眼屏幕直接看到探针针尖，对准台阶边缘。软件i‑STAR31功能：台阶高度、膜厚、粗糙度、波纹度、沟槽轮廓、薄膜应力计算；支持宏程序自动批量测量；输出ISO/JIS参数；支持CSV导出...

代理KOSAKA小坂研究所台阶仪微细形状测定机代理KOSAKA小坂研究所台阶仪微细形状测定机微細形状測定機，接触式金刚石探针，测量薄膜台阶高度（膜厚）、刻蚀深度、表面粗糙度、轮廓、薄膜内应力，半导体/MEMS/FPD行业主流设备，对标BrukerDektak、KLA台阶仪，金刚石探针压在样品表面，样品台水平扫描；薄膜台阶起伏带动探针垂直位移，LVDT位移传感器采集Z向位移，计算台阶高度=薄膜厚度，同时输出粗糙度Ra/Rz、轮廓曲线微細形状測定機，接触式金刚石探针，测量薄膜台阶...

KOSAKA台阶仪薄膜测厚仪微细形状测定机ET4000系列，微細形状測定機，接触式金刚石探针，测量薄膜台阶高度（膜厚）、刻蚀深度、表面粗糙度、轮廓、薄膜内应力，半导体/MEMS/FPD行业主流设备，对标BrukerDektak、KLA台阶仪半导体：金属膜、氧化硅、氮化硅、光刻胶、RDL再布线层、刻蚀深度；MEMS：牺牲层厚度、结构层台阶；FPD显示：ITO膜、钝化层；科研：镀层、涂层、柔性薄膜；防振台桌上型/落地型；超微力检出单元（实现0.5μN，测光刻胶软膜）；R0.5μm...

KOSAKA小坂研究所ET系列接触式台阶仪（薄膜测厚仪）金刚石探针压在样品表面，样品台水平扫描；薄膜台阶起伏带动探针垂直位移，LVDT位移传感器采集Z向位移，计算台阶高度=薄膜厚度，同时输出粗糙度Ra/Rz、轮廓曲线。微細形状測定機，接触式金刚石探针，测量薄膜台阶高度（膜厚）、刻蚀深度、表面粗糙度、轮廓、薄膜内应力，半导体/MEMS/FPD行业主流设备，对标BrukerDektak、KLA台阶仪。金刚石探针压在样品表面，样品台水平扫描；薄膜台阶起伏带动探针垂直位移，LVDT位...

TSUBOSAKACT‑1‑LL3壶坂电机属于CT‑1Light简易版（LL系列），FPD/LCD行业，彩色光刻胶、偏光油墨、滤色片的透射对比度/消光比测试仪，CT‑1‑LL2升级型号。CT‑1：系列，偏光对比度测定装置LL：Light等级（简易机型），对比STB1标准、STC1专业版3：版本号，LL3为LL2改良升级，光源、旋转台稳定性优化测量原理样品夹在上下两片偏光片之间；下部光源入射，电机驱动上方偏振片旋转；自动找到平行偏光最大透射亮度Lmax、正交偏光最小透射亮度Lm...

日本PISCO匹士克VH/VS真空发生器直装式电磁阀负压发生器小型文丘里真空阀PISCOVHVS真空发生器高真空大流量锂电3C电子自动化负压吸附阀原装匹士克VH/VS系列真空发生器直通弯头型精密自动化真空发生元件直装免接头PISCO匹士克真空发生器VH弯头VS直通型高速响应精密负压发生器锂电洁净款S3真空发生器PISCOVHH/VSH/VHL系列轻载自动化吸附专用PISCOVH/VS直装式真空发生器自动化精密真空发生阀PISCO真空发生器、匹士克真空发生器、小型真空发生器、文...

IMVSW‑72：三轴伺服力平衡式地震监测传感器本体，半导体工厂、FPD设备、精密设备地基地震检测；地震发生输出继电器报警，联动设备急停、断电保护。内置力平衡伺服加速度传感器（非压电），X/Y/Z三轴同时采集，内部做矢量合成，全方向无指向性检测地震振动；低频性能优异，适合地震0.3‑10Hz频段，普通压电振动传感器做不到这么低的频率。SW‑72：基础款，只测加速度(Gal)SW‑72R：高阶版，增加SI值（损伤指数Kine）、震度计算系统构成SW‑72/SW‑72R：现场地基...

大塚电子OTSUKA核心技术：分光干涉反射法（非接触、非破坏），通过解析薄膜上下界面反射光谱干涉波形，计算膜厚、折射率n、消光系数k；对标椭偏仪，性价比更高，广泛用于半导体、FPD、光学膜、DLC涂层、光刻胶等场景。宽带光源照射样品，薄膜上表面、基底界面产生两路反射光，发生光谱干涉；采集反射光谱，通过峰谷法、FFT、非线性最小二乘法拟合，解析单层/多层膜厚度、n/k光学常数，无需接触样品，单点测量约1秒以内大塚电子测试条件：SiO₂/Si标准样、对焦良好、环境振动受控；光斑最...

MIKASA日本米卡萨工业精密制造旋转涂膜仪日本MIKASA米卡萨旋转涂膜仪MS-B100这款精密匀胶设备工业检测、实验室精密设备：一、产品核心定位MS-B100是MIKASA推出的紧凑型高性能旋转涂膜仪，主打高性价比与小型化设计，属于“一人一台"的轻量化高性能机型，专为实验室小批量精密旋涂场景打造。二、核心性能参数·最大支持基板尺寸：可兼容4英寸晶圆，也支持75mm方形基板·转速调节范围：20~8000rpm，覆盖常规光刻胶旋涂的全转速区间·旋转精度：±1rp...

日本ORITEX茉丽特ML‑MC、MML镜头分为4大类：定焦FA镜头、抗振微距镜头ML‑MC、MML远心镜头、变倍远心；半导体、Mini‑LED、光学检测、MEMS设备选型高频型号。ML‑MC‑HR（高性价比，150lp/mm，2/3"）抗振微距镜头ML‑MC系列ML‑MC25HR、ML‑MC35HR、ML‑MC50HR、ML‑MC75HR倍率0.1‑0.4x，适合晶圆、基板外观检查，设备内部狭小安装，抗振优势突出。ML‑MC‑XR（新一代200lp/mm，1.1"，小像元2...

SSD西西蒂EliminostatCABS系列离子风棒应用场景：CABS：分体式HDC‑AC离子风棒（控制器与棒体分离），对标CABX（电源内置一体化）；主打1030mm以内短尺寸、狭小腔体、机台内部安装，最大亮点是检测功能比CABX更丰富。分体结构，棒体极薄小巧棒电极无内置高压模块，体积小，适合嵌入设备腔体、AOI、检测机、手套箱、小型工装内部；高压单元外置独立控制器CABS‑CTRCB，散热好，高压线缆短，布线灵活；整机DC24V低压输入。HDC‑AC脉冲电离技术离子平衡...